詞條
詞條說(shuō)明
硅片清洗廢水處理的工藝流程硅片清洗廢水處理是硅片切割后將硅錠用破錠機(jī)切割成硅塊,再用線鋸機(jī)將硅塊切割成硅片的過(guò)程,是光伏企業(yè)的重要生產(chǎn)環(huán)節(jié)。硅塊和硅片切割完成后大部分切割液回收再利用,硅塊和硅片上殘存少量切割液,需進(jìn)行清洗,清洗過(guò)程產(chǎn)生含有切割液等**物的廢水。今天,小編就給大家介紹下硅片清洗廢水處理的工藝流程吧。廢水的主要成分為聚乙二醇,可生化性較差,COD較高,較難處理。因水中沒(méi)有氮、磷等營(yíng)養(yǎng)
硅片切割難點(diǎn):1、雜質(zhì)線痕:由多晶硅錠內(nèi)雜質(zhì)引起,在切片過(guò)程中無(wú)法完全去除,導(dǎo)致硅片上產(chǎn)生相關(guān)線痕。2、劃傷線痕:由砂漿中的SIC大顆?;蛏皾{結(jié)塊引起。切割過(guò)程中,SIC顆?!翱ā痹阡摼€與硅片之間,無(wú)法溢出,造成線痕。 表現(xiàn)形式:包括整條線痕和半截線痕,內(nèi)凹,線痕發(fā)亮,較其它線痕較加窄細(xì)。 3、密布線痕(密集型線痕):由于砂漿的磨削能力不夠或者切片機(jī)砂漿回路系統(tǒng)問(wèn)題,造成硅片上出現(xiàn)密集線痕區(qū)域。
現(xiàn)在激光加工工藝不斷深入與創(chuàng)新,一種應(yīng)用較低功率的激光,便能使玻璃分離的玻璃激光切割新技術(shù)出現(xiàn),這一技術(shù)不對(duì)玻璃造成融化等熱影響,這種可控的切割新技術(shù)與傳統(tǒng)的機(jī)械切割工具不同,激光束的能量以一種非接觸的方式對(duì)玻璃進(jìn)行切割,形成一條光滑而筆直的裂縫,不會(huì)有碎屑和微裂紋出現(xiàn),因而激光切割的邊緣強(qiáng)度大幅提升,且免除了后續(xù)的加工。使用激光法可一步切割厚度為0.1mm到4mm的玻璃。影響切割速度的因素有:玻
?華諾激光專注于微米級(jí)的激光硅片切割、鉆孔、蝕刻、刻線、劃片、材料去除、構(gòu)造、雕刻和特殊材料的打標(biāo),主要應(yīng)用于LED芯片制造,觸摸屏,LCD,消費(fèi)類電子,半導(dǎo)體,MEMS,照明,醫(yī)療等行業(yè),以及科研、航天航空、軍事等領(lǐng)域,涉及包括各種金屬及合金、半導(dǎo)體、陶瓷、各種透明材質(zhì)、薄膜和聚合物等各種材料,公司已經(jīng)做過(guò)1000多個(gè)基于以上材料的各種激光微加工試驗(yàn)和方案。機(jī)器優(yōu)點(diǎn):1、配置高功率激光
公司名: 北京華諾恒宇光能科技有限公司
聯(lián)系人: 張經(jīng)理
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