詞條
詞條說(shuō)明
靶材,特別是高純度濺射靶材應(yīng)用于電子元器件制造的物理氣相沉積(Physical Vapor Deposition,PVD)工藝,是制備晶圓、面板、太陽(yáng)能電池等表面電子薄膜的關(guān)鍵材料。所謂濺射,是制備薄膜材料的主要技術(shù),也是PVD的一種。它通過(guò)在PVD設(shè)備中用離子對(duì)目標(biāo)物進(jìn)行轟擊,使得靶材中的金屬原子以一定能量逸出,從而在晶圓表面沉積,濺鍍形成金屬薄膜,其中被轟擊的固體是用濺射法沉積薄膜的原材料,稱
釕靶材廠家分享靶材的分類⒈金屬靶材鎳靶、Ni、鈦靶、Ti、鋅靶、Zn、鉻靶、Cr、鎂靶、Mg、鈮靶、Nb、錫靶、Sn、鋁靶、Al、銦靶、In、鐵靶、Fe、鋯鋁靶、ZrAl、鈦鋁靶、TiAl、鋯靶、Zr、鋁硅靶、AlSi、硅靶、Si、銅靶Cu、鉭靶T、a、鍺靶、Ge、銀靶、Ag、鈷靶、Co、金靶、Au、釓靶、Gd、鑭靶、La、釔靶、Y、鈰靶、Ce、鎢靶、w、不銹鋼靶、鎳鉻靶、NiCr、鉿靶、Hf、鉬
導(dǎo)體靶材行業(yè)市場(chǎng)、產(chǎn)品種類及技術(shù)壁壘分析
1、 半導(dǎo)體濺射靶材行業(yè)市場(chǎng)空間廣根據(jù)統(tǒng)計(jì),2015 年全球半導(dǎo)體材料銷售額為435 億美元,其中晶圓制造材料銷售額為242 億美元,封裝材料為193 億美元。在晶圓制造材料中,濺射靶材約占芯片制造材料市場(chǎng)的2.6%。在封裝測(cè)試材料中,濺射靶材約占封裝測(cè)試材料市場(chǎng)的2.7%。從2011-2015年,世界半導(dǎo)體用靶極濺射材料市場(chǎng)從10.1億美元,增長(zhǎng)至11.4億美元,復(fù)合增長(zhǎng)率為3.1%。2016年
公司團(tuán)隊(duì)服務(wù)鍍膜領(lǐng)域十二年,對(duì)各材料的靶材研發(fā)、設(shè)計(jì)、制造、擁有成熟的經(jīng)驗(yàn);公司與國(guó)內(nèi)外各行業(yè)科研院所長(zhǎng)期合作,為眾多國(guó)內(nèi)外工程項(xiàng)目提供了優(yōu)質(zhì)的靶材產(chǎn)品;公司注重用戶實(shí)踐與產(chǎn)品研發(fā),取得多項(xiàng)專利和研發(fā)成果。
公司名: 醴陵市利吉升新材料有限公司
聯(lián)系人: 謝小姐
電 話: 0769-88039551
手 機(jī): 18681059431
微 信: 18681059431
地 址: 湖南株洲醴陵市仙岳山街道五里墩村
郵 編:
網(wǎng) 址: dgsdwxc.cn.b2b168.com
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