淺談半導(dǎo)體靶材

時間：2019-12-16作者：醴陵市利吉升新材料有限公司瀏覽：917

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• 釕靶材廠家淺談常見的靶材

  釕靶材廠家淺談常見的靶材我們都了解靶材就是高速荷能粒子轟擊的目標(biāo)材料。濺射靶材主要應(yīng)用于電子及信息產(chǎn)業(yè)，如集成電路、信息存儲、液晶顯示屏、激光存儲器、電子控制器件等;亦可應(yīng)用于玻璃鍍膜領(lǐng)域;還可以應(yīng)用于耐磨材料、高溫耐蝕、高檔裝飾用品等行業(yè)。靶材種類比較多,有金屬類、合金類、氧化物類等等,用的行業(yè)也有所不同,應(yīng)用很廣泛。那么常見的金屬靶材有哪些?濺射靶材是否希缺資源?下面我們一起了解一下。一、常見

• 鈀靶材廠家?guī)懔私獍胁氖裁词前胁?？靶材是制備薄膜的主要材料之一，比如鍍膜靶材，通過磁控濺射，在適當(dāng)?shù)墓に嚄l件下，濺射在基體上形成各種所需功能薄膜的濺射源。當(dāng)然還有其它鍍膜工藝，比如真空離子鍍膜、蒸發(fā)鍍膜等等電鍍工藝。根據(jù)所需求工藝應(yīng)用的不同，對靶材的種類選擇也不同。所以說得簡單一點，靶材就是真空電鍍材料爐里的靶，你也可以簡單理解為電鍍材料的一種。靶材就材質(zhì)分類而言分為三大類：1. 金屬靶材 2.陶

• 淺談半導(dǎo)體靶材

  靶材，特別是高純度濺射靶材應(yīng)用于電子元器件制造的物理氣相沉積(Physical Vapor Deposition，PVD)工藝，是制備晶圓、面板、太陽能電池等表面電子薄膜的關(guān)鍵材料。所謂濺射，是制備薄膜材料的主要技術(shù)，也是PVD的一種。它通過在PVD設(shè)備中用離子對目標(biāo)物進(jìn)行轟擊，使得靶材中的金屬原子以一定能量逸出，從而在晶圓表面沉積，濺鍍形成金屬薄膜，其中被轟擊的固體是用濺射法沉積薄膜的原材料，稱

• 靶材可以應(yīng)用在哪些領(lǐng)域？

  眾所周知，靶材材料的技術(shù)發(fā)展趨勢與下游應(yīng)用產(chǎn)業(yè)的薄膜技術(shù)發(fā)展趨勢息息相關(guān)，隨著應(yīng)用產(chǎn)業(yè)在薄膜產(chǎn)品或元件上的技術(shù)改進(jìn)，靶材技術(shù)也應(yīng)隨之變化。如Ic制造商．近段時間致力于低電阻率銅布線的開發(fā)，預(yù)計未來幾年將大幅度取代原來的鋁膜，這樣銅靶及其所需阻擋層靶材的開發(fā)將刻不容緩。另外，近年來平面顯示器（FPD）大幅度取代原以陰極射線管（CRT）為主的電腦顯示器及電視機市場．亦將大幅增加ITO靶材的技術(shù)與市場需