導(dǎo)體靶材行業(yè)市場(chǎng)、產(chǎn)品種類及技術(shù)壁壘分析

時(shí)間：2019-12-17作者：醴陵市利吉升新材料有限公司瀏覽：705

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• 詞條

  詞條說(shuō)明

• 【高純金靶材】濺射靶材的主要應(yīng)用

  濺射靶材的主要應(yīng)用濺射靶材主要應(yīng)用于電子及信息產(chǎn)業(yè)，如集成電路、信息存儲(chǔ)、液晶顯示屏、激光存儲(chǔ)器、電子控制器件等；亦可應(yīng)用于玻璃鍍膜領(lǐng)域；還可以應(yīng)用于耐磨材料、高溫耐蝕、高檔裝飾用品等行業(yè)。分類 根據(jù)形狀可分為長(zhǎng)靶，方靶，圓靶，異型靶 根據(jù)成份可分為金屬靶材、合金靶材、陶瓷化合物靶材 根據(jù)應(yīng)用不同又分為半導(dǎo)體關(guān)聯(lián)陶瓷靶材、記錄介質(zhì)陶瓷靶材、顯示陶瓷靶材、超導(dǎo)陶瓷靶材和巨磁電阻陶瓷靶材等 根據(jù)應(yīng)用領(lǐng)

• 靶材在真空鍍膜中的應(yīng)用

  新型的濺鍍?cè)O(shè)備幾乎都使用強(qiáng)力磁鐵將電子成螺旋狀運(yùn)動(dòng)以加速靶材周圍的氬氣離子化，造成靶與氬氣離子間的撞擊機(jī)率增加，提高濺鍍速率。一般金屬鍍膜大都采用直流濺鍍，而不導(dǎo)電的陶磁材料則使用RF交流濺鍍，基本的原理是在真空中利用輝光放電（glow discharge）將氬氣（Ar）離子撞擊靶材（target）表面，電漿中的陽(yáng)離子會(huì)加速?zèng)_向作為被濺鍍材的負(fù)電極表面，這個(gè)沖擊將使靶材的物質(zhì)飛出而沉積在基板上形成

• 工程服務(wù)

  售前服務(wù)：專家級(jí)設(shè)計(jì)團(tuán)隊(duì)為您解決項(xiàng)目建設(shè)所需的鍍膜材料方案設(shè)計(jì)和咨詢工作，幫您節(jié)約投資和降低能耗；過(guò)程服務(wù)：您交付的任務(wù)，我們的專業(yè)管理團(tuán)隊(duì)按照ISO9001的質(zhì)量管理體系，做好每一個(gè)細(xì)節(jié);售后服務(wù)：售后團(tuán)隊(duì)技術(shù)精湛，經(jīng)驗(yàn)豐富。

• 常見(jiàn)的金屬靶材有哪些?

  靶材便是快速荷能粒子負(fù)電子的總體目標(biāo)原材料。靶材類型比較多,有金屬類、合金類、金屬氧化物類這些,用的領(lǐng)域也各有不同,運(yùn)用很普遍。那麼普遍的金屬靶材有什么?普遍金屬靶材的類型如下所示基本金屬軋材鎂Mg、錳M、鐵Fe、鈷CO、鎳Ni、銅Cu、鋅Zn、鉛Pd、錫S、鋁AL小金屬靶材銦I、鍺Ge、鎵Ga、銻Sb、鉍Bi、鎘Cd硅化物金屬靶材鈦Ti、鍇Zr、鉿Hf、釩V鈮№b、鉭Ta、銘Cr、鉬M、鎢W、錸