詞條
詞條說(shuō)明
硅片切割難點(diǎn):1、雜質(zhì)線(xiàn)痕:由多晶硅錠內(nèi)雜質(zhì)引起,在切片過(guò)程中無(wú)法完全去除,導(dǎo)致硅片上產(chǎn)生相關(guān)線(xiàn)痕。2、劃傷線(xiàn)痕:由砂漿中的SIC大顆粒或砂漿結(jié)塊引起。切割過(guò)程中,SIC顆?!翱ā痹阡摼€(xiàn)與硅片之間,無(wú)法溢出,造成線(xiàn)痕。 表現(xiàn)形式:包括整條線(xiàn)痕和半截線(xiàn)痕,內(nèi)凹,線(xiàn)痕發(fā)亮,較其它線(xiàn)痕較加窄細(xì)。 3、密布線(xiàn)痕(密集型線(xiàn)痕):由于砂漿的磨削能力不夠或者切片機(jī)砂漿回路系統(tǒng)問(wèn)題,造成硅片上出現(xiàn)密集線(xiàn)痕區(qū)域。
硅片切割一般有什么難點(diǎn)?1、雜質(zhì)線(xiàn)痕:由多晶硅錠內(nèi)雜質(zhì)引起,在切片過(guò)程中無(wú)法完全去除,導(dǎo)致硅片上產(chǎn)生相關(guān)線(xiàn)痕。2、劃傷線(xiàn)痕:由砂漿中的SIC大顆?;蛏皾{結(jié)塊引起。切割過(guò)程中,SIC顆?!翱ā痹阡摼€(xiàn)與硅片之間,無(wú)法溢出,造成線(xiàn)痕。表現(xiàn)形式:包括整條線(xiàn)痕和半截線(xiàn)痕,內(nèi)凹,線(xiàn)痕發(fā)亮,較其它線(xiàn)痕較加窄細(xì)。3、密布線(xiàn)痕(密集型線(xiàn)痕):由于砂漿的磨削能力不夠或者切片機(jī)砂漿回路系統(tǒng)問(wèn)題,造成硅片上出現(xiàn)密集線(xiàn)痕區(qū)
?華諾激光專(zhuān)注于微米級(jí)的激光硅片切割、鉆孔、蝕刻、刻線(xiàn)、劃片、材料去除、構(gòu)造、雕刻和特殊材料的打標(biāo),主要應(yīng)用于LED芯片制造,觸摸屏,LCD,消費(fèi)類(lèi)電子,半導(dǎo)體,MEMS,照明,醫(yī)療等行業(yè),以及科研、航天航空、軍事等領(lǐng)域,涉及包括各種金屬及合金、半導(dǎo)體、陶瓷、各種透明材質(zhì)、薄膜和聚合物等各種材料,公司已經(jīng)做過(guò)1000多個(gè)基于以上材料的各種激光微加工試驗(yàn)和方案。機(jī)器優(yōu)點(diǎn):1、配置高功率激光
【光學(xué)石英玻璃】石英玻璃化學(xué)性質(zhì)
石英玻璃,是由各種純凈的**石英(如水晶、石英砂等)熔化制成。線(xiàn)膨脹系數(shù)較小,是普通玻璃的1/10~1/20,有很好的抗熱震性。它的耐熱性很高,經(jīng)常使用溫度為1100℃~?1200℃,短期使用溫度可達(dá)1400℃。石英玻璃主要用于實(shí)驗(yàn)室設(shè)備和特殊高純產(chǎn)品的提煉設(shè)備。由于它具有高的光譜透射,不會(huì)因輻射線(xiàn)損傷(其他玻璃受輻射線(xiàn)照射后會(huì)發(fā)暗),因此也是用于宇宙飛船、風(fēng)洞窗和分光光度計(jì)光學(xué)系統(tǒng)的理
公司名: 北京華諾恒宇光能科技有限公司
聯(lián)系人: 張經(jīng)理
電 話(huà): 010-83687269
手 機(jī): 18920259803
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地 址: 北京豐臺(tái)花鄉(xiāng)北京市豐臺(tái)區(qū)南三環(huán)玉泉營(yíng)橋西春嵐大廈1號(hào)樓2單元102室
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