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    氧化鋯靶材:高性能材料的核心秘密 氧化鋯靶材是薄膜沉積技術中的關鍵材料,廣泛應用于半導體、光學鍍膜、太陽能電池等領域。它的高熔點、優(yōu)異的化學穩(wěn)定性以及良好的機械強度,使其成為高端鍍膜工藝的首選。 高熔點與穩(wěn)定性 氧化鋯的熔點高達2700℃,遠高于普通金屬氧化物,這使得它在高溫環(huán)境下仍能保持穩(wěn)定。在濺射鍍膜過程中,靶材需要承受高能粒子的轟擊,而氧化鋯的耐高溫特性確保了鍍膜過程的穩(wěn)定性和均勻性。此外,

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    貴金屬合金靶材:高科技產業(yè)的"隱形冠軍"在半導體和顯示面板生產線上,一種特殊材料正在默默發(fā)揮著關鍵作用。貴金屬合金靶材以其獨特的性能,成為現(xiàn)代電子制造業(yè)不可或缺的核心材料。這種由金、銀、鉑等貴金屬與其他金屬元素組成的合金材料,通過磁控濺射工藝在基板上沉積出納米級薄膜,為電子器件提供優(yōu)良的導電性和穩(wěn)定性。純度是衡量貴金屬合金靶材品質的首要指標。99.99%以上的超高純度要求,確保了濺射過程中不會引

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