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釔鐵石榴石靶材:精密鍍膜的核心材料釔鐵石榴石靶材在現(xiàn)代精密鍍膜工藝中扮演著關鍵角色。這種特殊材料由釔、鐵和氧元素組成,具有獨特的晶體結構,能夠滿足高端光學和電子器件對薄膜材料的嚴苛要求。這種靶材最顯著的特點是它的磁光特性。在特定波長范圍內,釔鐵石榴石薄膜表現(xiàn)出優(yōu)異的法拉第旋轉效應,這一特性使其成為制造光隔離器、環(huán)形器等非互易光學器件的理想選擇。薄膜的均勻性和穩(wěn)定性直接影響器件的性能指標,而高質量
磷酸鋰靶材:新能源時代的關鍵材料密碼 在固態(tài)電池與薄膜技術的交叉領域,磷酸鋰靶材正悄然改寫能源存儲的規(guī)則。這種灰白色陶瓷材料通過磁控濺射工藝,能在基體表面形成致密的鋰離子傳導層,其性能直接決定著固態(tài)電解質薄膜的離子電導率與界面穩(wěn)定性。 高純磷酸鋰粉末經過冷等靜壓成型后,需要在特定燒結曲線下進行致密化處理。溫度控制成為關鍵——超過850℃會導致鋰元素揮發(fā),而低于750℃又難以形成完整的晶體結構。成
貴金屬合金靶材:高科技產業(yè)的"隱形冠軍"在半導體和顯示面板生產線上,一種特殊材料正在默默發(fā)揮著關鍵作用。貴金屬合金靶材以其獨特的性能,成為現(xiàn)代電子制造業(yè)不可或缺的核心材料。這種由金、銀、鉑等貴金屬與其他金屬元素組成的合金材料,通過磁控濺射工藝在基板上沉積出納米級薄膜,為電子器件提供優(yōu)良的導電性和穩(wěn)定性。純度是衡量貴金屬合金靶材品質的首要指標。99.99%以上的超高純度要求,確保了濺射過程中不會引
高純鉻靶的目標晶粒尺寸和分布:通常,目標材料具有多晶結構,并且晶粒尺寸可以在微米到毫米的數(shù)量級上。 對于相同組成的靶材,細顆粒靶材的濺射速率比粗顆粒高純鉻靶的濺射速率快,而晶粒尺寸較小的靶材具有更均勻的沉積膜厚度分布。 通過真空熔融法制造的靶材可以確保塊內沒有孔,但是通過粉末冶金法制造的高純鉻靶很可能包含一定數(shù)量的孔。 孔的存在會在濺射過程中引起異常放電,從而產生雜質顆粒。 此外,由于其密度低,在
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