KRi 離子源 e-beam 電子束蒸發(fā)系統(tǒng)輔助鍍膜應(yīng)用

時(shí)間：2024-01-12作者：伯東企業(yè)（上海）有限公司瀏覽：64

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• 詞條

  詞條說(shuō)明

• HVA 真空閥門 11000 用在 OLED 鍍膜機(jī)

  國(guó)內(nèi)某?OLED?鍍膜機(jī)廠家配置伯東美國(guó)?HVA?真空閥門?11000?系列，尺寸以?4”, 6”, 8”閥門口徑為主的標(biāo)準(zhǔn)不銹鋼氣動(dòng)高真空閘閥,?HVA?不銹鋼真空閘閥?11000?系列標(biāo)準(zhǔn)技術(shù)規(guī)格:??閥門材質(zhì):?-?閥門主體?304&

• 氦質(zhì)譜檢漏儀高溫真空燒結(jié)爐氣密性泄露檢測(cè)

  氦質(zhì)譜檢漏儀高溫真空燒結(jié)爐氣密性泄露檢測(cè)某客戶生產(chǎn)汽車過(guò)濾網(wǎng), 因高溫真空燒結(jié)爐氣密性不佳, 導(dǎo)致生產(chǎn)出的過(guò)濾網(wǎng)材料出現(xiàn)氧化質(zhì)量問(wèn)題, 經(jīng)過(guò)上海伯東推薦, 選用氦質(zhì)譜檢漏儀?ASM 340W 對(duì)真空燒結(jié)爐進(jìn)行檢漏, 真空模式下, 漏率 5X10-10?mar l/s. 經(jīng)過(guò)檢漏后的真空爐, 生產(chǎn)出的過(guò)濾網(wǎng)材料無(wú)氧化, 達(dá)到客戶工藝要求.高溫真空燒結(jié)爐氦質(zhì)譜檢漏法:金屬 (粉末)

• 分子泵組應(yīng)用于紅外原位分析平臺(tái)

  Pfeiffer?分子泵組應(yīng)用于紅外原位分析平臺(tái)紅外原位瞬態(tài)反應(yīng)過(guò)程分析實(shí)驗(yàn)平臺(tái)是與世界實(shí)驗(yàn)室同步水平研究的變溫變壓綜合實(shí)驗(yàn)設(shè)備, 由原位吸附高真空系統(tǒng), 低溫系統(tǒng), 氣液物料, 探針凈化控制系統(tǒng)和壓力突變等部件組成, 可用于開(kāi)展樣品的熱脫附, 熱解, 探針?lè)肿语柡臀胶吞结樂(lè)肿用}沖微吸附等復(fù)雜反應(yīng)過(guò)程研究.紅外原位分析平臺(tái)的主要特點(diǎn)是對(duì)固體材料進(jìn)行嚴(yán)格的高真空和高溫預(yù)處理, 可在高真空

• HVA 真空閥門應(yīng)用于E-Beam鍍膜機(jī)

  某?Sputtering + E-Beam PVD?鍍膜機(jī)系統(tǒng)采用?HVA?真空閥門?11000, HVA?真空閥門安裝在分子泵口便于泵的檢修,同時(shí)外系統(tǒng)停機(jī)時(shí)不破壞系統(tǒng)真空,?只要對(duì)泵內(nèi)部進(jìn)行破真空即可.HVA?不銹鋼真空閘閥?11000?系列標(biāo)準(zhǔn)技術(shù)規(guī)格:??閥門材質(zhì):&nb