美國 HVA 高真空閥門簡介

時間：2023-05-18作者：伯東企業(yè)（上海）有限公司瀏覽：65

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• KRI 考夫曼射頻離子源濺射制備微晶硅薄膜

  硅薄膜作為薄膜太陽能電池的材料越來越引起人們的重視, 非晶硅薄膜太陽能電池由于存在轉(zhuǎn)換效率低和由 S-W 效應(yīng)引起的效率衰退等問題, 而微晶硅薄膜具有較高電導(dǎo)率、較高載流子遷移的電學(xué)性質(zhì)及優(yōu)良的光學(xué)穩(wěn)定性, 可以克服非晶硅薄膜的不足, 已成為光伏領(lǐng)域的研究熱點.?采用磁控濺射沉積硅薄膜不需要使用 SiH4 等有毒氣體及相應(yīng)的尾氣處理裝置, 有利于降低設(shè)備成本, 且工藝參數(shù)控制, 因此經(jīng)過

• HVA 真空閥門 11000 用在 OLED 鍍膜機

  國內(nèi)某?OLED?鍍膜機廠家配置伯東美國?HVA?真空閥門?11000?系列，尺寸以?4”, 6”, 8”閥門口徑為主的標準不銹鋼氣動高真空閘閥,?HVA?不銹鋼真空閘閥?11000?系列標準技術(shù)規(guī)格:??下圖是某?OLED?鍍膜機廠家配置上海伯東美

• KRi 射頻離子源 IBSD離子束濺射沉積應(yīng)用

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• HVA 真空閥門（真空閘閥）成功用于激光真空系統(tǒng)

  激光是一種很奇妙的?”物質(zhì)”,?是人類繼原子能、計算機和半導(dǎo)體之后人類的又一偉大發(fā)現(xiàn).人們都知道,?激光亮度高,?可以達到太陽亮度的10億倍甚.激光純凈無比,?單色性好;?激光具有無比的準直性（直線傳播）;?而且,?激光的能量強大,?瞬間爆發(fā)的能量,?即使堅硬的物體也能夠被穿透、熔化.?因