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  • KRI 考夫曼射頻離子源 RFICP220濺射沉積 ZrAlN薄膜

    合金化是提高過渡族金屬氮化物薄膜硬度及抗磨損、耐腐蝕性能的有效方法。Al是常用合金化元素,能提高薄膜的硬度和抗高溫氧化性能。?北京某大學實驗室在對硬韌 ?ZrAlN 薄膜及薄膜力學性能研究中, 采用伯東?KRI?考夫曼射頻離子源?RFCIP220? 輔助磁控濺射沉積的方法在鈦合金和單晶 Si 上沉積不同 Al 含量的ZrAlN 薄膜.&n

  • 氦質(zhì)譜檢漏儀高溫真空燒結(jié)爐氣密性泄露檢測

    氦質(zhì)譜檢漏儀高溫真空燒結(jié)爐氣密性泄露檢測某客戶生產(chǎn)汽車過濾網(wǎng), 因高溫真空燒結(jié)爐氣密性不佳, 導致生產(chǎn)出的過濾網(wǎng)材料出現(xiàn)氧化質(zhì)量問題, 經(jīng)過上海伯東推薦, 選用氦質(zhì)譜檢漏儀?ASM 340W 對真空燒結(jié)爐進行檢漏, 真空模式下, 漏率 5X10-10?mar l/s. 經(jīng)過檢漏后的真空爐, 生產(chǎn)出的過濾網(wǎng)材料無氧化, 達到客戶工藝要求.高溫真空燒結(jié)爐氦質(zhì)譜檢漏法:金屬 (粉末)

  • 美國 HVA 真空閥門選型

    上海伯東美國?HVA 真空閥門選型實例產(chǎn)品系列特點口徑HVA 真空閘閥 11000 系列介面, 控制方式全包括DN 16 到 DN 600HVA 真空層流閘閥 13000系列防腐蝕DN 40 到 DN 300HVA 真空層流閘閥 16000系列防顆粒污染DN 40 到 DN 350HVA 矩形閥 21200 系列長使用壽命DN 16 到 DN 300HVA 3位真空閘閥 21700系列

  • KRI 離子源用于鍍制1064nm窄帶濾光片激光膜

    ?? ? ? 1064nm 窄帶濾光片是在各類玻璃材質(zhì)表面通過特殊的鍍膜工藝而形成的光學元件, 可以從入射光中選取任意所需求的波長, 半峰值一般在 5nm~50nm之間, 具有波長定位準確、透過高、截止深、溫漂小、性好、光潔度好的特點, 是激光設備應用中常見的濾光片解決方案.?? ? ? 1064nm 窄帶濾光片使用在

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