LPCVD設(shè)備

時間：2014-10-22作者：青島福潤德微電子設(shè)備有限公司瀏覽：104

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• 詞條

  詞條說明

• 石英領(lǐng)

  ?石英軟領(lǐng)為進(jìn)口石英纖維棉采用德國加工工藝制成，用于擴散爐和PECVD設(shè)備中爐體和石英管之間的隔熱保溫，解決了以往用保溫棉存在的兩大問題：一是保溫棉長時間在高溫下出現(xiàn)粉化脫落從而影響工作腔體潔凈度，二是手動堵塞保溫棉不均勻，影響工作區(qū)溫度穩(wěn)定性和均勻性。本產(chǎn)品可長期使用在高溫下，不粉化，不變形，不硬化，不氧化，防震，防腐蝕。

• （單管程序氧化爐）

  ?單管氧化爐技術(shù)方案 ? ????????????? （單管程序氧化爐） ? ?????????????&n

• 太陽能擴散爐

  太陽能電池擴散工藝及其設(shè)備 太陽能電池擴散工藝及其設(shè)備 ????技術(shù)方案是：一種太陽能電池擴散工藝，在太陽能電池擴散工藝中通控制抽氣排風(fēng)壓力，使抽氣排風(fēng)壓力這個參數(shù)保持穩(wěn)定，抽氣排風(fēng)壓力這個參數(shù)保持穩(wěn)定，抽氣排風(fēng)壓力的穩(wěn)定導(dǎo)致辭磷在硅片中的注入濃度穩(wěn)定，使加工后得到的硅片的方塊電池保持穩(wěn)定，在后道的燒結(jié)中可以匹配出高效的太陽能電池。抽氣排風(fēng)壓力通過在機臺排

• 等離子增強化學(xué)氣相淀積系統(tǒng)(PECVD)

  ? 等離子增強化學(xué)氣相淀積系統(tǒng)(PECVD) PECVD（等離子增強化學(xué)氣相淀積）設(shè)備是一種用于在基片上生成高質(zhì)量SiNx和SiO2薄膜的**設(shè)備。淀積溫度范圍寬( 100～600oC可調(diào))，特別適用于半導(dǎo)體器件和集成電路的鈍化，用以提高器件和集成電路可靠性。目前，它已成為微電子和光電子領(lǐng)域科研和生產(chǎn)不可缺少的設(shè)備。 產(chǎn)品特點： 1、膜質(zhì)量高。它不同于通常使用的翻蓋式單室機（易漏大氣而