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二硼化鈦靶材:高科技領域的"隱形冠軍"二硼化鈦靶材憑借其超高硬度和優(yōu)異的導電性能,成為現(xiàn)代工業(yè)領域不可或缺的關鍵材料。這種陶瓷靶材的維氏硬度高達30GPa以上,僅次于金剛石和立方氮化硼,在極端環(huán)境下仍能保持穩(wěn)定的物理特性。在薄膜制備領域,二硼化鈦靶材展現(xiàn)出獨特優(yōu)勢。通過磁控濺射工藝,它能制備出兼具高硬度和良好導電性的功能薄膜。這種薄膜的電阻率可低至10-6Ω·cm量級,硬度達到30GPa,既滿足
廣州鎳鉻合金靶材報價作為一種常見的合金靶材,鎳鉻合金靶材在各個領域都有著廣泛的應用。作為一家致力于高屬材料、蒸發(fā)鍍膜材料以及濺射靶材研發(fā)生產(chǎn)的公司,我們的鎳鉻合金靶材不僅具有優(yōu)異的性能,而且價格實惠,深受廣大客戶的青睞。鎳鉻合金靶材由鎳和鉻兩種金屬元素組成,具有優(yōu)異的物理化學性質(zhì)和精細的表面平整度,適用于電子元件、薄膜制備、防腐蝕材料等多個領域。公司自豪地擁有多名中**技術人員和化應用實驗室,具有
硫化銅靶材:薄膜制備的關鍵材料 硫化銅靶材是一種廣泛應用于薄膜沉積工藝的重要材料,尤其在太陽能電池、光電探測器等領域具有不可替代的作用。它的核心優(yōu)勢在于良好的導電性和光學特性,能夠滿足不同應用場景的需求。 硫化銅靶材的制備工藝直接影響其性能。通常采用粉末冶金法或化學合成法,通過高溫燒結(jié)使材料致密化,確保靶材的均勻性和穩(wěn)定性。在濺射或蒸發(fā)過程中,硫化銅靶材能夠高效形成高質(zhì)量的薄膜,且成分可控性較強,
鉬鈦合金靶材:高科技領域的"隱形冠軍"鉬鈦合金靶材在真空鍍膜領域扮演著關鍵角色。這種特殊材料由鉬和鈦按特定比例熔煉而成,通過粉末冶金或電弧熔煉工藝制備,具有高熔點、優(yōu)異耐腐蝕性和良好導電性等突出特性。在磁控濺射工藝中,鉬鈦合金靶材能夠穩(wěn)定釋放金屬原子,形成均勻致密的薄膜鍍層。薄膜沉積過程中,鉬鈦合金靶材展現(xiàn)出獨特優(yōu)勢。其高密度結(jié)構(gòu)確保濺射時不會產(chǎn)生顆粒飛濺,保證鍍膜表面光潔度;適當?shù)挠捕仁拱胁脑?/p>
公司名: 東莞市鼎偉新材料有限公司
聯(lián)系人: 肖先生
電 話: 0769-88039551
手 機: 18681059472
微 信: 18681059472
地 址: 廣東東莞東莞市南城區(qū)民間金融大廈
郵 編:
網(wǎng) 址: dgsdwxc1.cn.b2b168.com
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