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詞條說明
高純度鎢靶材是典型性銜接金屬鎢的一種化工原材料,其因純凈度高(超過99.95%),密度大(19.35g/cm3),蒸汽放低,揮發(fā)速率小,耐熱功能好等特性,常見來生產(chǎn)制造薄厚特小的氧化鎢薄膜。就現(xiàn)階段火爆的半導(dǎo)體芯片而言,新式氧化鎢薄膜能不錯的做為它的蔓延阻擋層、粘接層和大中型電子器件儲存器電級等,從而能明顯上升集成ic商品的綜合性品質(zhì)。高純度鎢靶材是怎樣生產(chǎn)制造出氧化鎢薄膜的呢?磁控濺射法是制取氧
中山貴金屬靶材廠是一家生產(chǎn)貴金屬靶材的科技型民營企業(yè),擁有多名中**技術(shù)人員和化應(yīng)用實驗室,致力于研發(fā)和生產(chǎn)高質(zhì)量的貴金屬靶材產(chǎn)品。我們的產(chǎn)品主要包括蒸發(fā)材料、濺射靶材等系列,廣泛應(yīng)用于電子、太陽能等領(lǐng)域。貴金屬靶材是一種以貴金屬及其合金為原料制造而成的濺射靶材,具有**的物理和化學(xué)特性,被廣泛應(yīng)用于各種高科技領(lǐng)域。在集成電路制造中,貴金屬靶材扮演著重要的角色,如金、銀、鉑等靶材被廣泛用于半導(dǎo)體行
中山三氧化鋁靶材廠是一家致力于生產(chǎn)三氧化鋁靶材的科技型工貿(mào)有限公司。公司擁有多名中**技術(shù)人員和化應(yīng)用實驗室,具備強大的研發(fā)能力和生產(chǎn)能力。我們專注于研發(fā)和生產(chǎn)高純度、高密度的三氧化鋁靶材,廣泛應(yīng)用于微電子工業(yè)、精密光學(xué)和表面工程等領(lǐng)域,為客戶提供穩(wěn)定、的產(chǎn)品。三氧化鋁靶材是一種關(guān)鍵材料,在各個領(lǐng)域都有著重要的應(yīng)用**。**,在微電子工業(yè)中,三氧化鋁靶材作為濺射材料,可以制備出高質(zhì)量的薄膜,用于制
氧化鋁靶材:精密鍍膜背后的關(guān)鍵角色氧化鋁靶材是一種用于物理氣相沉積(PVD)工藝的高純度陶瓷材料。這種材料在半導(dǎo)體、光學(xué)鍍膜和顯示面板制造領(lǐng)域扮演著不可替代的角色。其核心價值在于能夠通過濺射工藝在基材表面形成致密、均勻的氧化鋁薄膜。高純度是氧化鋁靶材的首要特征。通常要求純度達(dá)到99.99%以上,雜質(zhì)含量控制在ppm級別。這種極高的純度保證了最終鍍膜的質(zhì)量和性能。在半導(dǎo)體器件中,即使是微量的雜質(zhì)也
公司名: 東莞市鼎偉新材料有限公司
聯(lián)系人: 肖先生
電 話: 0769-88039551
手 機: 18681059472
微 信: 18681059472
地 址: 廣東東莞東莞市南城區(qū)民間金融大廈
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網(wǎng) 址: dgsdwxc1.cn.b2b168.com
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