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高純鉻靶的目標(biāo)晶粒尺寸和分布:通常,目標(biāo)材料具有多晶結(jié)構(gòu),并且晶粒尺寸可以在微米到毫米的數(shù)量級上。 對于相同組成的靶材,細(xì)顆粒靶材的濺射速率比粗顆粒高純鉻靶的濺射速率快,而晶粒尺寸較小的靶材具有更均勻的沉積膜厚度分布。 通過真空熔融法制造的靶材可以確保塊內(nèi)沒有孔,但是通過粉末冶金法制造的高純鉻靶很可能包含一定數(shù)量的孔。 孔的存在會在濺射過程中引起異常放電,從而產(chǎn)生雜質(zhì)顆粒。 此外,由于其密度低,在
鋁硅合金靶材:現(xiàn)代鍍膜工藝的關(guān)鍵材料 鋁硅合金靶材是真空鍍膜領(lǐng)域的重要材料,廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體、光伏、顯示面板等行業(yè)。其獨(dú)特的性能使其成為濺射鍍膜工藝中的理想選擇,能夠制備出高質(zhì)量的薄膜涂層。 鋁硅合金靶材的關(guān)鍵優(yōu)勢在于其優(yōu)異的導(dǎo)電性和熱穩(wěn)定性。鋁本身具有良好的導(dǎo)電性,而硅的加入進(jìn)一步提升了合金的耐高溫性能,使其在濺射過程中不易變形或開裂。這種合金靶材在鍍膜時能夠形成均勻、致密的薄膜,尤其適合需要
湛江鎳鉻合金靶材批發(fā)湛江,一個充滿活力和機(jī)遇的城市,也是鎳鉻合金靶材的批發(fā)之地。在這里,有一家專業(yè)生產(chǎn)高質(zhì)量金屬材料的公司,致力于為客戶提供優(yōu)質(zhì)的鎳鉻合金靶材及其他蒸發(fā)鍍膜材料和濺射靶材產(chǎn)品。公司擁有多名中**專業(yè)技術(shù)人員和專業(yè)化應(yīng)用實(shí)驗(yàn)室,以及強(qiáng)大的研發(fā)能力,為客戶提供**的產(chǎn)品務(wù)。鎳鉻合金靶材,作為一種常見的合金靶材,由鎳和鉻兩種金屬元素組成,具有廣泛的應(yīng)用領(lǐng)域。這種合金靶材在電子元件制造、薄
茂名三氧化鋁靶材作為生產(chǎn)高屬材料、蒸發(fā)鍍膜材料和濺射靶材的科技型民營股份制工貿(mào)有限公司,我們自豪地推出的三氧化鋁靶材。三氧化鋁靶材是一種高純度、高密度的陶瓷材料,在微電子工業(yè)、精密光學(xué)和表面工程等領(lǐng)域扮演著重要的角色。在微電子工業(yè)中,三氧化鋁靶材以其高純度和高密度的特性,被廣泛用于制造高質(zhì)量的薄膜和電子器件。通過濺射技術(shù),三氧化鋁靶材可以將材料沉積在基片上,形成具有特定功能的薄膜,為微電子器件提供
公司名: 東莞市鼎偉新材料有限公司
聯(lián)系人: 肖先生
電 話: 0769-88039551
手 機(jī): 18681059472
微 信: 18681059472
地 址: 廣東東莞東莞市南城區(qū)民間金融大廈
郵 編:
網(wǎng) 址: dgsdwxc1.cn.b2b168.com
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