廣州貴金屬靶材廠

時間：2024-09-14作者：東莞市鼎偉新材料有限公司瀏覽：375

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  詞條說明

• 硒化鉻靶材

  硒化鉻靶材：半導(dǎo)體行業(yè)的新星材料 硒化鉻靶材作為一種新興的功能材料，近年來在半導(dǎo)體、光伏和顯示技術(shù)等領(lǐng)域嶄露頭角。其獨特的物理和化學(xué)性質(zhì)使其成為高性能薄膜沉積工藝中的關(guān)鍵材料，尤其在制備低功耗電子器件方面展現(xiàn)出巨大潛力。 硒化鉻（CrSe?）屬于過渡金屬硫族化合物，具有層狀晶體結(jié)構(gòu)。這種結(jié)構(gòu)賦予它優(yōu)異的電學(xué)和磁學(xué)特性，例如較高的載流子遷移率和可調(diào)控的能帶結(jié)構(gòu)。在薄膜沉積過程中，硒化鉻靶材通過磁控

• 珠海鉭靶材廠

  珠海鉭靶材廠：致力于鉭靶材的研發(fā)與生產(chǎn)珠海鉭靶材廠是一家生產(chǎn)鉭靶材的科技型民營股份制工貿(mào)有限公司。公司實力雄厚，擁有多名中**技術(shù)人員和化應(yīng)用實驗室，具備強大的蒸發(fā)材料開發(fā)能力。我們的產(chǎn)品廣泛應(yīng)用于國內(nèi)外多家電子、太陽能企業(yè)，在市場上擁有良好的口碑和美譽度。鉭靶材作為一種高屬材料，具有*特的物理和化學(xué)性質(zhì)，被廣泛用于電子、冶金、鋼鐵、化工、硬質(zhì)合金、原子能、導(dǎo)技術(shù)、汽車電子、航空航天、醫(yī)療衛(wèi)生和科

• 高純鉻靶的目標雜質(zhì)控制

  高純鉻靶的目標雜質(zhì)控制：如果靶中的夾雜物數(shù)量過多，則在濺射過程中可能在晶片上形成顆粒，從而導(dǎo)致互連線短路或斷開，這將嚴重影響膜的性能。高純鉻靶中的大多數(shù)夾雜物是在冶煉和鑄造過程中形成的，主要由氧化物組成，但也包括氮化物，碳化物，氫化物，硫化物，硅化物等，因此應(yīng)在冶煉和鑄造過程中使用。坩堝，內(nèi)部 流道，鑄模等由還原性材料制成，在澆鑄之前，應(yīng)將熔體表面的氧化物和其他爐渣徹底清除。 通常，它們在真空或無

• 汕尾稀土靶材廠

  汕尾稀土靶材廠是一家生產(chǎn)高屬材料、蒸發(fā)鍍膜材料以及濺射靶材的科技型民營股份制工貿(mào)有限公司。公司擁有多名中**技術(shù)人員和化應(yīng)用實驗室，具有強大的蒸發(fā)材料開發(fā)能力。我們先后研發(fā)的蒸發(fā)材料、濺射靶材系列產(chǎn)品廣泛應(yīng)用于國內(nèi)外眾多電子、太陽能企業(yè)，以較高的性價比成功取代了國外進口產(chǎn)品，深受用戶。稀土靶材是我們產(chǎn)品線中的重要組成部分。稀土靶材廣泛應(yīng)用于電子元件、光學(xué)薄膜、太陽能電池等領(lǐng)域。其工作原理是利用電子