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詞條說明
對濺射類鍍膜,可以簡單理解為利用電子或高能激光轟擊靶材,并使表面組分以原子團(tuán)或離子形式被濺射出來,并且最終沉積在基片表面,經(jīng)歷成膜過程,最終形成薄膜。濺射鍍膜又分為很多種,總體看,與蒸發(fā)鍍膜的不同點(diǎn)在于濺射速率將成為主要參數(shù)之一。?濺射鍍膜中的激光濺射鍍膜pld,組分均勻性容易保持,而原子尺度的厚度均勻性相對較差(因?yàn)槭敲}沖濺射),晶向(外沿)生長的控制也比較一般。以pld為例,因素主要
惠州金靶材廠家金靶材是一種被廣泛應(yīng)用于多個(gè)領(lǐng)域的材料,具有高的純度要求和優(yōu)越的性能特點(diǎn)。在光學(xué)涂層、生物醫(yī)學(xué)、電子器件和納米技術(shù)等領(lǐng)域發(fā)揮著重要作用。在當(dāng)今科技快速發(fā)展的時(shí)代,金靶材的需求也在不斷增加,而惠州金靶材廠家作為國內(nèi)良好的金靶材生產(chǎn)企業(yè),致力于為客戶提供的金靶材產(chǎn)品務(wù)。我們公司是一家的金靶材生產(chǎn)廠家,擁有多名中**技術(shù)人員和化應(yīng)用實(shí)驗(yàn)室,具備強(qiáng)大的蒸發(fā)材料開發(fā)能力。我們先后研發(fā)的蒸發(fā)材料
深圳三氧化鋁靶材深圳三氧化鋁靶材是一種高純度、高密度的陶瓷材料,具有**的穩(wěn)定性和能夠承受端熱環(huán)境的能力。在今天高科技產(chǎn)業(yè)發(fā)展的背景下,三氧化鋁靶材作為一種關(guān)鍵材料,扮演著重要的角色。微電子工業(yè)是當(dāng)今高科技產(chǎn)業(yè)的中流砥柱,而三氧化鋁靶材在微電子工業(yè)中有著的作用。由于其高純度和高密度的特性,三氧化鋁靶材被廣泛應(yīng)用于薄膜制備過程中。通過濺射技術(shù),將三氧化鋁材料沉積在基片上,形成高質(zhì)量的薄膜,例如作為絕
高純鉻靶的目標(biāo)雜質(zhì)控制:如果靶中的夾雜物數(shù)量過多,則在濺射過程中可能在晶片上形成顆粒,從而導(dǎo)致互連線短路或斷開,這將嚴(yán)重影響膜的性能。高純鉻靶中的大多數(shù)夾雜物是在冶煉和鑄造過程中形成的,主要由氧化物組成,但也包括氮化物,碳化物,氫化物,硫化物,硅化物等,因此應(yīng)在冶煉和鑄造過程中使用。坩堝,內(nèi)部 流道,鑄模等由還原性材料制成,在澆鑄之前,應(yīng)將熔體表面的氧化物和其他爐渣徹底清除。 通常,它們在真空或無
公司名: 東莞市鼎偉新材料有限公司
聯(lián)系人: 肖先生
電 話: 0769-88039551
手 機(jī): 18681059472
微 信: 18681059472
地 址: 廣東東莞東莞市南城區(qū)民間金融大廈
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