電漿清洗機(jī)氫去除SiC表面污染物C和O

時(shí)間：2023-02-14作者：深圳子柒科技有限公司瀏覽：85

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• 詞條

  詞條說(shuō)明

• 大氣等離子清洗機(jī)設(shè)備安裝靈便簡(jiǎn)易，可去除塑膠表層的微小積塵

  ?大氣等離子清洗機(jī)設(shè)備安裝靈便簡(jiǎn)易，可與智能化生產(chǎn)流水線在線運(yùn)用。利用等離子體內(nèi)各種高能物質(zhì)的活(化)影響，去除附著在物體表層的污垢。其基本原理:在氧等離子體中的氧原子自由基、刺激性氧分子、電子和紫外光線的相同影響下，油污分子結(jié)構(gòu)后面被氧化變成水和CO2分子結(jié)構(gòu)，并從物體表層去除。大氣直噴等離子清洗機(jī)廣泛應(yīng)用于玻璃光學(xué)、手機(jī)制造、印刷、包裝等諸多行業(yè)。? ? &nbs

• plasma設(shè)備表面聚合同樣是非常普遍的反應(yīng)其一

  沉積層的存在有利于提高材料表面的黏結(jié)能力。在plasma設(shè)備對(duì)難粘塑料進(jìn)行處理時(shí)，往往伴隨聚合、蝕刻、活化等形式會(huì)同時(shí)出現(xiàn)。? ? ? ?當(dāng)材料表面有很高的光潔度要求時(shí)，要通過(guò)表面活化進(jìn)行鍍膜，沉積，粘接等不至于破壞材料表面光潔度時(shí)，采用plasma設(shè)備進(jìn)行活化。經(jīng)等離子活化后的材料表面水滴浸潤(rùn)效果顯著強(qiáng)于其它解決的方法。我們用plasma設(shè)備來(lái)做手機(jī)屏的清

• ?plasma等離子體能量密度對(duì)H2氣氛下C2H6脫氫反應(yīng)的影響

  ?plasma等離子體能量密度為860 kJ/mol時(shí)，H2添加量對(duì)C2H6脫氫反應(yīng)的影響：隨著H2濃度增加，C2H6轉(zhuǎn)化率，C2H2、C2H4和CH4收率均有所增加，這表明H2的加入有利于C2H6轉(zhuǎn)化及C2H2、C2H4和CH4生成。產(chǎn)生上述結(jié)果的可能原因是：一方面氫氣因其導(dǎo)熱性好，可大量傳遞熱量，在乙烷plasma等離子體中起稀釋氣體作用;另一方面氫氣的H-H鍵斷裂能為4.48eV，

• 電漿清洗機(jī)比超聲波清洗機(jī)在處理微觀材料表層顯得更環(huán)保

  電漿清洗機(jī)是1種嶄新的科技創(chuàng)新，使用等離子體高過(guò)日常潔凈方式難以高過(guò)的功效。等離子體是物質(zhì)的狀態(tài)，也稱為物質(zhì)的*四狀態(tài)。在氣體中施加足夠的能量使其分離成等離子。等離子體的“活性”組分包含：離子、電子、活性基團(tuán)、激發(fā)態(tài)的核素（亞穩(wěn)態(tài)）、光子等。電漿清洗機(jī)使用這種活性成份的類型處理試樣表層，高過(guò)清潔等作用。常壓電漿清洗機(jī)可選用多種型號(hào)的噴嘴，用于不同場(chǎng)合，以滿足各種不同的產(chǎn)品和處理環(huán)境；小型化的設(shè)備體