電漿清洗機氫去除SiC表面污染物C和O

時間：2023-02-14作者：深圳子柒科技有限公司瀏覽：97

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  詞條說明

• 在紡織和涂層領(lǐng)域_等離子表面活化機的使用情況有哪些呢？

  等離子表面活化機廣泛應(yīng)用于紡織品后整理。按照整理的目的和要求，可以實現(xiàn)紡織品的多功能加工，大大提高產(chǎn)品的附加值。目前，它在紡織品中的應(yīng)用主要包括以下幾類。1)等離子表面活化機三防整理傳統(tǒng)式的紡織品三防整理，往往需要經(jīng)過軋制、烘焙、烘焙等工序，工藝流程長，需要耗費大量能量；而且需要昂貴的整理劑等添加劑。因此，其加工成本高，整理后往往會影響或犧牲纖維或織物本身的特性和性能。較重要的是，這些整理劑或交聯(lián)

• 等離子處理機清洗后鋁片黏附與改性前降低了黏附

  ?等離子處理機誘導(dǎo)產(chǎn)生的活性種(例如自由基等)，提供了表面二(乙二醇)甲醚分子碎片再次相結(jié)合做好反應(yīng)的機制。自由基落入成的分子網(wǎng)絡(luò)中，可觸發(fā)劇烈的電子激發(fā)原位氧化反應(yīng)。?對等離子處理機處理后的鋁片分子層構(gòu)造做ATR-FTIR剖析，在1583.07cm處有個較強的吸收峰，這也是PEG構(gòu)造中C-O鍵的特征吸收峰，表明沉積的表面層是類PEG構(gòu)造。1780.21cm處的吸收峰，說明有C

• 電漿清洗機氫去除SiC表面污染物C和O

  SiC該材料是三代半導(dǎo)體材質(zhì)，具有高臨界擊穿電場、高導(dǎo)熱性、高載流子飽和漂移速度等特點。它是**半導(dǎo)體功率器件的*方向，在高壓、高溫、高頻、抗輻射半導(dǎo)體器件低損耗的優(yōu)良性能，是**半導(dǎo)體功率器件的*。? ? ? ??但經(jīng)傳統(tǒng)濕法處理后的SiC表面存在著殘留有C雜質(zhì)和表面容易被氧化等缺點，使得在SiC上不容易形成優(yōu)良的歐姆接觸和低界面態(tài)的MOS結(jié)

• 等離子體CMOS工藝中應(yīng)用于集成電路制造中WAT方法研究

  WAT(Wafer Accept Test)即硅圓片接收測試，就是在半導(dǎo)體硅片完成所有的制程工藝后，對硅圓片上的各種測試結(jié)構(gòu)進行電性測試，它是反映產(chǎn)品質(zhì)量的一種手段，是產(chǎn)品入庫前進行的一道質(zhì)量檢驗。? ? ? ??伴隨著半導(dǎo)體技術(shù)的發(fā)展，等離子體工藝已廣泛應(yīng)用于集成電路制造中，離子注入、干法刻蝕、干法去膠、UV輻射、薄膜淀積等都可能會引入等離子體損