等離子體CMOS工藝中應(yīng)用于集成電路制造中WAT方法研究

時(shí)間：2023-03-14作者：深圳子柒科技有限公司瀏覽：159

深圳子柒科技有限公司專(zhuān)注于等離子表面處理機(jī),全自動(dòng)點(diǎn)膠機(jī),等離子清洗機(jī)等

• 詞條

  詞條說(shuō)明

• ?plasma等離子體能量密度對(duì)H2氣氛下C2H6脫氫反應(yīng)的影響

  ?plasma等離子體能量密度為860 kJ/mol時(shí)，H2添加量對(duì)C2H6脫氫反應(yīng)的影響：隨著H2濃度增加，C2H6轉(zhuǎn)化率，C2H2、C2H4和CH4收率均有所增加，這表明H2的加入有利于C2H6轉(zhuǎn)化及C2H2、C2H4和CH4生成。產(chǎn)生上述結(jié)果的可能原因是：一方面氫氣因其導(dǎo)熱性好，可大量傳遞熱量，在乙烷plasma等離子體中起稀釋氣體作用;另一方面氫氣的H-H鍵斷裂能為4.48eV，

• 汽車(chē)手機(jī)配件材料脫漆、噴不上用等離子火焰處理機(jī)怎么樣

  汽車(chē)手機(jī)配件材料脫漆、噴不上用等離子火焰處理機(jī)怎么樣：? ? ? ?由于大多數(shù)塑料表面張力較低，因此過(guò)去的很多設(shè)計(jì)都是采用替代材料，只要表面經(jīng)等離子火焰處理機(jī)處理后，能達(dá)到噴漆或粘合等工藝標(biāo)準(zhǔn)，就**采用這種材料。近年來(lái)，成本、材料的使用性能等都日益成為產(chǎn)品設(shè)計(jì)中的主導(dǎo)因素，這促使汽車(chē)制造商開(kāi)始關(guān)注更多的塑料品種。目前，PP、PC、ABS、SMC、各種彈性體

• 等離子處理器使用哪些常見(jiàn)氣體作為清理介質(zhì)？

  等離子處理器也屬于干洗法，與傳統(tǒng)的濕法清洗器相比，電漿處理器具備工藝簡(jiǎn)單、操作簡(jiǎn)單、可控性高、精度高等特點(diǎn)，能一次清理表層不會(huì)有殘留物，反觀濕法清理一次清理不干凈還會(huì)有殘留物，如果使用大量的溶劑，對(duì)環(huán)境和人體都會(huì)有害。電漿清洗器在使用流程中，有兩種清理流程：化學(xué)變化和物理反應(yīng)。電漿清理性能好，清理快，去除氧化物，**物和物體表層活化效果好，而且在使用流程中不會(huì)產(chǎn)生對(duì)人體和環(huán)境有害的氣體，是一種真正

• 等離子體刻蝕機(jī)清洗技術(shù)在塑料及橡膠行業(yè)中的應(yīng)用

  等離子體刻蝕機(jī)是利用高頻輝光放電反應(yīng)，將反應(yīng)氣體為原子或游離基等具有活性的粒子，這些活性粒子擴(kuò)散到需要腐蝕的位置，然后與被刻蝕的物質(zhì)發(fā)生反應(yīng)，形成揮發(fā)性反應(yīng)物，這種腐蝕方法也稱(chēng)為干腐蝕。等離子化洗蝕刻技術(shù)是電漿特殊特性的應(yīng)用。等離子體清洗蝕刻技術(shù)的形成設(shè)備，是在密閉器皿內(nèi)用進(jìn)口真空泵達(dá)到相應(yīng)的真空度，隨著氣體的稀薄，分子間隔及分子與離子之間的自由運(yùn)動(dòng)距離變長(zhǎng)，在電場(chǎng)的作用下碰撞形成等離子體，這些離