KRI 考夫曼射頻離子源濺射制備微晶硅薄膜

時(shí)間：2024-01-12作者：伯東企業(yè)（上海）有限公司瀏覽：80

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  詞條說明

• HVA 真空閥門應(yīng)用于E-Beam鍍膜機(jī)

  某?Sputtering + E-Beam PVD?鍍膜機(jī)系統(tǒng)采用?HVA?真空閥門?11000, HVA?真空閥門安裝在分子泵口便于泵的檢修,同時(shí)外系統(tǒng)停機(jī)時(shí)不破壞系統(tǒng)真空,?只要對泵內(nèi)部進(jìn)行破真空即可.HVA?不銹鋼真空閘閥?11000?系列標(biāo)準(zhǔn)技術(shù)規(guī)格:??閥門材質(zhì):&nb

• KRI 離子源應(yīng)用于舞臺(tái)燈光濾光片鍍膜

  ?? 舞臺(tái)燈光雖然呈現(xiàn)是五顏六色的,?但光源一般都是白色.?通過在光源前加上特定的光學(xué)濾光片,?對光進(jìn)行“加工”,?反射和透過特定的波段,?來達(dá)到不同的色彩變化.?加上顏色濾光片,?讓不同顏色的鏡片不停切換,?產(chǎn)生不同顏色.?而在光學(xué)元件或立基板上,?鍍上或涂布一層或多層介電質(zhì)膜

• 殘余氣體分析儀應(yīng)用于高溫真空爐, 實(shí)現(xiàn)質(zhì)量保證和過程優(yōu)化

  殘余氣體分析儀應(yīng)用于高溫真空爐, 實(shí)現(xiàn)質(zhì)量保證和過程優(yōu)化上海伯東某客戶生產(chǎn)研發(fā) X 射線管及組件, 使用德國 Pfeiffer?Hicube RGA 殘余氣體分析儀與高溫真空爐連接, 測試產(chǎn)品在不同溫度下?lián)]發(fā)的產(chǎn)物變化, 進(jìn)一步分析產(chǎn)品的耐用性以及使用形態(tài). 實(shí)現(xiàn)真空過程相關(guān)的質(zhì)量控制, 滿足 X 射線管工藝要求.殘余氣體分析儀質(zhì)量保證和過程優(yōu)化諸如提供氣體成分定量測定, 確定過程氣體純

• HVA真空閥門成功應(yīng)用于粒子系統(tǒng)

  伯東代理的美國?HVA?真空閥門成功應(yīng)用于中國研制的亞洲大的粒子系統(tǒng).??HVA?不銹鋼真空閘閥?11000?系列標(biāo)準(zhǔn)技術(shù)規(guī)格:??閥門材質(zhì):?-?閥門主體?304?不銹鋼?-?焊接波紋管軸封?AM - 350?閥門密封方式&nb