KRI 離子源應(yīng)用于舞臺(tái)燈光濾光片鍍膜

時(shí)間：2024-01-10作者：伯東企業(yè)（上海）有限公司瀏覽：97

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• 詞條

  詞條說(shuō)明

• HVA 真空閥門(mén)應(yīng)用于E-Beam鍍膜機(jī)

  某?Sputtering + E-Beam PVD?鍍膜機(jī)系統(tǒng)采用?HVA?真空閥門(mén)?11000, HVA?真空閥門(mén)安裝在分子泵口便于泵的檢修,同時(shí)外系統(tǒng)停機(jī)時(shí)不破壞系統(tǒng)真空,?只要對(duì)泵內(nèi)部進(jìn)行破真空即可.HVA?不銹鋼真空閘閥?11000?系列標(biāo)準(zhǔn)技術(shù)規(guī)格:??閥門(mén)材質(zhì):&nb

• HVA 真空閘閥在氣體管路系統(tǒng)應(yīng)用

  因產(chǎn)品配置不同，價(jià)格貨期需要電議，圖片僅供參考，一切以實(shí)際成交合同為準(zhǔn)。美國(guó) HVA?真空閘閥在氣體管路系統(tǒng)應(yīng)用半導(dǎo)體工廠, 太陽(yáng)能光伏, LED, 鍍膜等行業(yè)在工藝制程中需要使用到例如 Ar, O2 或是其他特殊氣體, 氣體管路系統(tǒng)(真空管路)的作用是把各種氣體在滿足工藝制程要求的純度, 壓力和流量的前提下安全穩(wěn)定的供應(yīng)到工藝設(shè)備內(nèi). 美國(guó) HVA?真空閘閥廣泛用在氣體輸送環(huán)

• 氦質(zhì)譜檢漏儀 ASM 340D 高真空排氣臺(tái)密封性泄露檢測(cè)

  氦質(zhì)譜檢漏儀高真空排氣臺(tái)密封性泄露檢測(cè)上海伯東某客戶生產(chǎn)研發(fā)多工位高真空和高真空排氣臺(tái), 實(shí)現(xiàn)多工位同時(shí)抽真空的效果, 真空度需要穩(wěn)定在 -7 mbar, - 8 mbar, 包含真空系統(tǒng)在內(nèi)的多個(gè)組件, 均需要進(jìn)行密封性泄露測(cè)試, 以保證高真空性能. 經(jīng)過(guò)上海伯東推薦真空系統(tǒng)**組件分子泵選用德國(guó) Pfeiffer HiPace 系列, 并使用無(wú)油干式氦質(zhì)譜檢漏儀 ASM 340D?

• KRI 考夫曼射頻離子源 RFICP220濺射沉積 ZrAlN薄膜

  合金化是提高過(guò)渡族金屬氮化物薄膜硬度及抗磨損、耐腐蝕性能的有效方法。Al是常用合金化元素，能提高薄膜的硬度和抗高溫氧化性能。?北京某大學(xué)實(shí)驗(yàn)室在對(duì)硬韌 ?ZrAlN 薄膜及薄膜力學(xué)性能研究中, 采用伯東?KRI?考夫曼射頻離子源?RFCIP220? 輔助磁控濺射沉積的方法在鈦合金和單晶 Si 上沉積不同 Al 含量的ZrAlN 薄膜.&n