KRi 考夫曼離子源表面預(yù)清潔 Pre-clean 應(yīng)用

時(shí)間：2024-01-12作者：伯東企業(yè)（上海）有限公司瀏覽：83

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• 詞條

  詞條說(shuō)明

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  某?Sputtering + E-Beam PVD?鍍膜機(jī)系統(tǒng)采用?HVA?真空閥門(mén)?11000, HVA?真空閥門(mén)安裝在分子泵口便于泵的檢修,同時(shí)外系統(tǒng)停機(jī)時(shí)不破壞系統(tǒng)真空,?只要對(duì)泵內(nèi)部進(jìn)行破真空即可.HVA?不銹鋼真空閘閥?11000?系列標(biāo)準(zhǔn)技術(shù)規(guī)格:??閥門(mén)材質(zhì):&nb

• 模塊式檢漏儀應(yīng)用于氫能行業(yè)真空箱檢漏系統(tǒng)

  模塊式檢漏儀應(yīng)用于氫能行業(yè)真空箱檢漏系統(tǒng)在燃料電池中, 氫氣發(fā)生電化學(xué)反應(yīng)以產(chǎn)生電力并為汽車(chē)提供動(dòng)力. 燃料電池發(fā)電機(jī), 儲(chǔ)氣罐和配電管線需要密封, 防止發(fā)生可能影響性能和安全性的泄漏. 為滿足大批量生產(chǎn)需求, 通常使用自動(dòng)化真空箱檢漏系統(tǒng). 上海伯東德國(guó) Pfeiffer?檢漏模塊 ASI 35?作為自動(dòng)氦檢漏系統(tǒng)的**部件, 提供可靠, 可重復(fù)的泄露檢測(cè), 滿足氫能行業(yè)真空

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  氦質(zhì)譜檢漏儀 ASM 340?真空鍍膜配氣面板檢漏上海伯東某客戶生產(chǎn)高純度特種氣體不銹鋼減壓閥門(mén), 接頭, 管件, 這些配件主要用于集成在真空鍍膜配氣面板, 實(shí)現(xiàn)工藝氣體的傳輸. 為了防止氣體外泄, 除了閥門(mén), 接頭, 管件需要單檢漏外, 整個(gè)配氣面板也需要測(cè)試整體漏率, 使用上海伯東德國(guó) Pfeiffer?氦質(zhì)譜檢漏儀 ASM 340, 真空模式下, 漏率設(shè)置為 5.5x

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  上海伯東美國(guó)?KRi 考夫曼離子源?e-beam 電子束蒸發(fā)系統(tǒng)輔助鍍膜應(yīng)用上海伯東美國(guó)?KRi 考夫曼離子源?KDC 系列, 通過(guò)加熱燈絲產(chǎn)生電子, 是典型的考夫曼型離子源, 離子源增強(qiáng)設(shè)計(jì)輸出低電流高能量寬束型離子束, 通過(guò)同時(shí)的或連續(xù)的離子轟擊表面使原子(分子)沉積在襯底上形成薄膜, 實(shí)現(xiàn)輔助鍍膜 IBAD.?e-beam?電子束蒸