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詞條說(shuō)明
KRi 大面積射頻離子源應(yīng)用于 12英寸,8英寸 IBE 離子束蝕刻系統(tǒng)
上海伯東美國(guó)?KRi 考夫曼公司大面積射頻離子源? RFICP 380, RFICP 220 成功應(yīng)用于 12英寸和 8英寸 IBE? 離子束蝕刻機(jī), 刻蝕均勻性(1 σ)達(dá)到< 1%. 可以用來(lái)刻蝕任何固體材料, 包括金屬, 合金, 氧化物, 化合物, 混合材料, 半導(dǎo)體, 絕緣體, 導(dǎo)體等.離子束刻蝕屬于干法刻蝕, 其部件為大面積離子源. 作為蝕刻機(jī)的部件,
上海伯東普發(fā) Pfeiffer 售后維修服務(wù)
上海伯東普發(fā) Pfeiffer?售后維修服務(wù)"?無(wú)論您想調(diào)試新的真空系統(tǒng), 故障排除, 維護(hù)保養(yǎng)還是維修, 上海伯東都能為您提供全面的支持并在較短的時(shí)間內(nèi)做出響應(yīng)! "伯東企業(yè)(上海)有限公司是德國(guó)普發(fā)真空 Pfeiffer Vacuum? 授權(quán)代理商, 隸屬于伯東株式會(huì)社, 外國(guó)法人資, 集團(tuán)年?duì)I業(yè)額過(guò) 10 億美金. 上海伯東自 1995年成立以來(lái), 
KRi 離子源 e-beam 電子束蒸發(fā)系統(tǒng)輔助鍍膜應(yīng)用
上海伯東美國(guó)?KRi 考夫曼離子源?e-beam 電子束蒸發(fā)系統(tǒng)輔助鍍膜應(yīng)用上海伯東美國(guó)?KRi 考夫曼離子源?KDC 系列, 通過(guò)加熱燈絲產(chǎn)生電子, 是典型的考夫曼型離子源, 離子源增強(qiáng)設(shè)計(jì)輸出低電流高能量寬束型離子束, 通過(guò)同時(shí)的或連續(xù)的離子轟擊表面使原子(分子)沉積在襯底上形成薄膜, 實(shí)現(xiàn)輔助鍍膜 IBAD.?e-beam?電子束蒸
Pfeiffer?分子泵組應(yīng)用于紅外原位分析平臺(tái)紅外原位瞬態(tài)反應(yīng)過(guò)程分析實(shí)驗(yàn)平臺(tái)是與世界實(shí)驗(yàn)室同步水平研究的變溫變壓綜合實(shí)驗(yàn)設(shè)備, 由原位吸附高真空系統(tǒng), 低溫系統(tǒng), 氣液物料, 探針凈化控制系統(tǒng)和壓力突變等部件組成, 可用于開(kāi)展樣品的熱脫附, 熱解, 探針?lè)肿语柡臀胶吞结樂(lè)肿用}沖微吸附等復(fù)雜反應(yīng)過(guò)程研究.紅外原位分析平臺(tái)的主要特點(diǎn)是對(duì)固體材料進(jìn)行嚴(yán)格的高真空和高溫預(yù)處理, 可在高真空
公司名: 伯東企業(yè)(上海)有限公司
聯(lián)系人: 葉南晶
電 話: 021-50463511
手 機(jī): 13918837267
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地 址: 上海浦東高橋上海浦東新區(qū)新金橋路1888號(hào)36號(hào)樓7樓702室
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網(wǎng) 址: hakuto2010.cn.b2b168.com
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