真空磁控濺射鍍膜設(shè)備的技術(shù)特點(diǎn)有哪些？

時(shí)間：2022-04-23作者：廣東振華科技股份有限公司廣東廣州分公司瀏覽：637

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  詞條說明

• 真空鍍膜機(jī)哪個(gè)好

  真空鍍膜機(jī)的種類繁多，接下來(lái)我們來(lái)拿磁控濺射鍍膜機(jī)來(lái)舉一下例子：該設(shè)備集控磁控濺射與離子鍍膜技術(shù)為一體，對(duì)提高顏色一致性，沉積速率及化合物成份的穩(wěn)定性提供了解決方案。根據(jù)不同的產(chǎn)品需求，可選配加熱系統(tǒng)、偏壓系統(tǒng)、離化系統(tǒng)等裝置，其靶位分布可靈活調(diào)整；膜層均勻性優(yōu)越；配備不同的靶材，可鍍制出心梗較好的復(fù)合膜層。設(shè)備所鍍的制的膜層具有附著力強(qiáng)，致密性高的優(yōu)點(diǎn)，可有效提高產(chǎn)品的耐鹽霧性，耐磨性及產(chǎn)品表面

• 何時(shí)對(duì)零件執(zhí)行真空浸漬

  是否應(yīng)該在完成之前或之后進(jìn)行真空浸漬？粉末涂料，油漆，鉻酸鹽轉(zhuǎn)化和陽(yáng)極氧化是壓鑄零件的常用表面處理，可改善其性能或外觀。在某些壓鑄應(yīng)用中，組件還必須密封以容納加壓的流體或氣體。公司使用真空浸漬法通過密封內(nèi)部泄漏通道而不會(huì)影響鑄件的任何其他特征來(lái)滿足這些要求。一般規(guī)則是，在任何表面拋光之前都應(yīng)進(jìn)行真空浸漬。這將密封孔隙并消除可能因除氣，化學(xué)相容性或預(yù)處理滲出而導(dǎo)致的任何失效模式。以下是在涂飾后進(jìn)行浸

• 影響磁控濺射中靶中毒的因素有哪些？

  一、靶面金屬化合物的形成由金屬靶面通過反應(yīng)濺射工藝形成化合物的過程中，化合物是在哪里形成的呢？由于活性反應(yīng)氣體粒子與靶面原子相碰撞產(chǎn)生化學(xué)反應(yīng)生成化合物原子，通常是放熱反應(yīng)，反應(yīng)生成熱必須有傳導(dǎo)出去的途徑，否則該化學(xué)反應(yīng)無(wú)法繼續(xù)進(jìn)行。在真空條件下氣體之間不可能進(jìn)行熱傳導(dǎo)，所以化學(xué)反應(yīng)必須在一個(gè)固體表面進(jìn)行。反應(yīng)濺射生成物在靶表面、基片表面、和其他結(jié)構(gòu)表面進(jìn)行。在基片表面生成化合物是我們的目的，在其

• PVD涂層對(duì)工件表面的要求

  工件或工具表面的條件對(duì)涂層的性能有決定性影響。要想有質(zhì)量良好的涂層，工件需經(jīng)研磨或拋光，并針對(duì)運(yùn)輸進(jìn)行防腐處理。一、研磨的表面不能出現(xiàn)淺裂紋、氧化皮或再硬化燒傷。 二、研磨期間使用的冷卻液不能包含任何磺酸鈣、硼或碘化合物、或含硅的消泡劑。 三、研磨過的表面、用磨刀石磨過的表面、拋光的表面或用磨盤磨過的表面必須沒有研磨劑和殘余物。 四、刀刃必須無(wú)毛刺，以便它們不會(huì)在**次使用時(shí)斷裂。 五、在EDM（