PVD涂層對(duì)工件表面的要求

時(shí)間：2022-05-14作者：廣東振華科技股份有限公司廣東廣州分公司瀏覽：249

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• 詞條

  詞條說(shuō)明

• 卷繞真空鍍膜機(jī)的簡(jiǎn)介與應(yīng)用

  ? ? ??卷繞式真空鍍膜設(shè)備,包括設(shè)置有放卷裝置、鍍膜室和收卷裝置的真空腔體,鍍膜室設(shè)置有與驅(qū)動(dòng)電機(jī)輸出軸連接的鍍膜輥,放卷裝置包括一放卷輥和一主動(dòng)的送料輥輪對(duì),送料輥輪對(duì)與鍍膜輥之間設(shè)置有張力釋放輥,該張力釋放輥是使料卷在送料輥輪對(duì)與張力釋放輥之間保持松弛狀態(tài)的輥輪；收卷裝置包括一主動(dòng)的收卷輥,鍍膜輥與收卷輥之間亦設(shè)置有送料輥輪對(duì),該送料輥輪對(duì)與收卷輥之

• 真空磁控濺射鍍膜設(shè)備的技術(shù)特點(diǎn)有哪些？

  真空磁控濺射鍍膜設(shè)備的技術(shù)特點(diǎn) 真空磁控濺射鍍膜特別適用于反應(yīng)沉積鍍膜，實(shí)際上，這種工藝可以沉積任何氧化物、碳化物以及氮化物材料的薄膜。此外，該工藝也特別適合用于多層膜結(jié)構(gòu)的沉積，包括了光學(xué)設(shè)計(jì)、彩色膜、耐磨涂層、納米層壓板、**晶格鍍膜、絕緣膜等。早在1970年，已經(jīng)有了高質(zhì)量的光學(xué)薄膜沉積案例，開(kāi)發(fā)了多種光學(xué)膜層材料。這些材料包括有透明導(dǎo)電材料、半導(dǎo)體、聚合物、氧化物、碳化物以及氮化物等，至于氟

• 立式濺射鍍膜設(shè)備的優(yōu)勢(shì)及應(yīng)用行業(yè)

  立式濺射鍍膜設(shè)備的特點(diǎn)： 1、在真空條件下制備鍍膜環(huán)境清潔，膜層不易受污染，可獲得致密性好，純度高，膜層厚度均勻，易于控制的涂層。 2、膜材的基體材料有廣泛的選擇性，可制備各種不同的功能性涂層。 3、膜的附著強(qiáng)度高，膜層十分牢固，不易脫落。 4、在工藝過(guò)程中不產(chǎn)生廢液，減少環(huán)境污染，減少對(duì)人體有害的金屬物體，較大程度上實(shí)現(xiàn)綠色環(huán)保生產(chǎn)。其中之一的汽車(chē)行業(yè) 該設(shè)備的設(shè)計(jì)為立式雙門(mén)的結(jié)構(gòu)，是一款直流磁

• 多弧離子真空鍍膜技術(shù)特點(diǎn)

  離子鍍的原理：離子鍍是在真空室中，利用氣體放電或被蒸發(fā)物質(zhì)部分離化，在氣體離子或被蒸發(fā)物質(zhì)粒子轟擊作用的同時(shí)，將蒸發(fā)物或反應(yīng)物沉積在基片上。離子鍍把輝光放電現(xiàn)象、等離子體技術(shù)和真空蒸發(fā)三者**結(jié)合起來(lái)， 不僅能明顯地改進(jìn)了膜質(zhì)量，而且還擴(kuò)大了薄膜的應(yīng)用范圍。其優(yōu)點(diǎn)是薄膜 附著力 強(qiáng)，繞射性好，膜材廣泛等。多弧離子鍍工藝的**特點(diǎn)是我們可以通過(guò)產(chǎn)生由高度電離的蒸發(fā)物質(zhì)文化組成的等離子體，其中離子之間