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磁控濺射技術(shù)原理及應(yīng)用簡介一、磁控濺射原理磁控濺射是一種常用的物相沉積(PVD)的方法,具有沉積溫度低、沉積速度快、所沉積的薄膜均勻性好,成分接近靶材成分等眾多優(yōu)點。傳統(tǒng)的濺射技術(shù)的工作原理是:在高真空的條件下,入射離子(Ar+)在電場的作用下轟擊靶材,使得靶材表面的中性原子或分子獲得足夠動能脫離靶材表面,沉積在基片表面形成薄膜。但是,電子會受到電場和磁場的作用,產(chǎn)生漂移,因而導(dǎo)致傳濺射效率低,電
1000度高溫真空探針臺,主要應(yīng)用于半導(dǎo)體、材料科學(xué)、納米技術(shù)、光電子、薄膜技術(shù)等領(lǐng)域,具有以下用途:1. 半導(dǎo)體器件測試與表征:用于不同溫度下的半導(dǎo)體料件、電子器件和光電子器件的性能測試和分析。2. 材料性能表征:研究和測試材料在不同溫度下的電學(xué)、磁學(xué)、光學(xué)等性能,以及材料的穩(wěn)定性和可靠性。3. 納米結(jié)構(gòu)與納米器件研究:在納米尺度上測量納米結(jié)構(gòu)與納米器件的電學(xué)性能,及其在高溫真空環(huán)境中的穩(wěn)定性和
質(zhì)量流量計為何要進行穩(wěn)壓補償常用的流量計大多只能夠直接測量流體的體積,并不能直接測量質(zhì)量,如果只測量流體在當前工況下的體積時,質(zhì)量流量計儀表可以直接顯示出來。但是如果要求流量計顯示為流體質(zhì)量時,需要通過計算即時采樣的流體體積參數(shù)與密度參數(shù)相乘的積而得出(質(zhì)量=密度X體積)而并非直接測量出流體的質(zhì)量。質(zhì)量流量計作為流量儀表,它測量出來的數(shù)據(jù)一定要準確,如果要測量流體的質(zhì)量時就涉及到一個問題:就是流體
掃描探針顯微鏡是目**種用途廣泛的表面分析儀器,它不僅廣泛應(yīng)用于物理、化學(xué)、生物、醫(yī)學(xué)等基礎(chǔ)研究領(lǐng)域,還在微納制造和微電子等的應(yīng)用研究領(lǐng)域中發(fā)揮著越來越重要的作用。然而,目前商業(yè)化的掃描探針顯微鏡主要為單一探針的工作模式,其功能相對單一,難以實現(xiàn)一些較為復(fù)雜的實驗及檢測功能。? ? 例如,在特殊環(huán)境下(如真空或輻射環(huán)境)的微觀磨損實驗中,若采用單一探針模式,在完成磨損實驗后,需
公司名: 鄭州科探儀器設(shè)備有限公司
聯(lián)系人: 裴先生
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手 機: 15136134901
微 信: 15136134901
地 址: 河南鄭州中原區(qū)鄭州**產(chǎn)業(yè)開發(fā)區(qū)西三環(huán)路289號6幢11單元3層73號
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