質(zhì)量流量計(jì)為何要進(jìn)行穩(wěn)壓補(bǔ)償

時(shí)間：2023-10-07作者：鄭州科探儀器設(shè)備有限公司瀏覽：90

鄭州科探儀器設(shè)備有限公司專注于真空探針臺(tái),小型離子蒸鍍儀,小型離子濺射儀等

• 詞條

  詞條說明

• 探針臺(tái)精準(zhǔn)控制關(guān)鍵技術(shù)研究

  集成電路自動(dòng)化裝備-探針臺(tái)是晶圓測(cè)試領(lǐng)域研究的熱點(diǎn)。由于晶圓片上晶粒很小,達(dá)到微米級(jí),所以要求探針臺(tái)要保持很高的定位精度和運(yùn)動(dòng)精度才能保證探針與晶粒的準(zhǔn)確對(duì)針和測(cè)試。因此,本文主要研究的問題是如何保證探針臺(tái)高精密控制,從而達(dá)到微米級(jí)定位要求。? ? ? ?本文來自于國(guó)家02專項(xiàng)-面向12”晶圓片的全自動(dòng)探針臺(tái)關(guān)鍵技術(shù)研究。首先,本文介紹了探針臺(tái)兩大部分-LO

• 6英寸高低溫?zé)崤_(tái)產(chǎn)品用途介紹

  本產(chǎn)品為6英寸高低溫?zé)崤_(tái)，能夠在高溫400度和低溫-120度的環(huán)境中工作。它是一種用于實(shí)驗(yàn)室、研究及工業(yè)生產(chǎn)過程中進(jìn)行溫度控制的設(shè)備，廣泛應(yīng)用于各類材料的熱處理、熱性能測(cè)試、化學(xué)反應(yīng)、生物樣品處理等方面。本產(chǎn)品具有溫度范圍廣、控溫精度高、操作簡(jiǎn)便及使用等特點(diǎn)，是實(shí)驗(yàn)室及工業(yè)領(lǐng)域非常理想的高低溫?zé)崤_(tái)設(shè)備。產(chǎn)品用途：1.?材料熱處理：廣泛應(yīng)用于金屬、陶瓷、塑料、粉末、納米材料等領(lǐng)域的熱處理、

• 磁控濺射技術(shù)原理及應(yīng)用簡(jiǎn)介

  磁控濺射技術(shù)原理及應(yīng)用簡(jiǎn)介一、磁控濺射原理磁控濺射是一種常用的物相沉積（PVD）的方法，具有沉積溫度低、沉積速度快、所沉積的薄膜均勻性好，成分接近靶材成分等眾多優(yōu)點(diǎn)。傳統(tǒng)的濺射技術(shù)的工作原理是：在高真空的條件下，入射離子（Ar+）在電場(chǎng)的作用下轟擊靶材，使得靶材表面的中性原子或分子獲得足夠動(dòng)能脫離靶材表面，沉積在基片表面形成薄膜。但是，電子會(huì)受到電場(chǎng)和磁場(chǎng)的作用，產(chǎn)生漂移，因而導(dǎo)致傳濺射效率低，電

• 基于真空探針臺(tái)的紅外焦平面自動(dòng)測(cè)試的關(guān)鍵技術(shù)研究

  紅外熱成像技術(shù)由于自身各種優(yōu)勢(shì)在軍事領(lǐng)域和民用領(lǐng)域有著廣闊的應(yīng)用前景,因此備受各國(guó)重視,競(jìng)相發(fā)展相關(guān)技術(shù)。? ? 由于國(guó)外對(duì)紅外熱成像技術(shù)的研究比較早,而我國(guó)在紅外熱成像技術(shù)領(lǐng)域起步較晚,所以差距很大。近年來我國(guó)在紅外熱成像技術(shù)的相關(guān)領(lǐng)域**了一些進(jìn)展,但很多方面還是遠(yuǎn)遠(yuǎn)落后于世界水平。? ? 因此,還需要加快紅外熱成像技術(shù)的研究。本課題以加快紅外熱成像技術(shù)