plasma等離子處理TEOS工藝沉積二氧化硅薄膜的光譜研究

時(shí)間：2023-03-20作者：深圳子柒科技有限公司瀏覽：155

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• 詞條

  詞條說(shuō)明

• 在紡織和涂層領(lǐng)域_等離子表面活化機(jī)的使用情況有哪些呢？

  等離子表面活化機(jī)廣泛應(yīng)用于紡織品后整理。按照整理的目的和要求，可以實(shí)現(xiàn)紡織品的多功能加工，大大提高產(chǎn)品的附加值。目前，它在紡織品中的應(yīng)用主要包括以下幾類(lèi)。1)等離子表面活化機(jī)三防整理傳統(tǒng)式的紡織品三防整理，往往需要經(jīng)過(guò)軋制、烘焙、烘焙等工序，工藝流程長(zhǎng)，需要耗費(fèi)大量能量；而且需要昂貴的整理劑等添加劑。因此，其加工成本高，整理后往往會(huì)影響或犧牲纖維或織物本身的特性和性能。較重要的是，這些整理劑或交聯(lián)

• 等離子處理機(jī)清洗后鋁片黏附與改性前降低了黏附

  ?等離子處理機(jī)誘導(dǎo)產(chǎn)生的活性種(例如自由基等)，提供了表面二(乙二醇)甲醚分子碎片再次相結(jié)合做好反應(yīng)的機(jī)制。自由基落入成的分子網(wǎng)絡(luò)中，可觸發(fā)劇烈的電子激發(fā)原位氧化反應(yīng)。?對(duì)等離子處理機(jī)處理后的鋁片分子層構(gòu)造做ATR-FTIR剖析，在1583.07cm處有個(gè)較強(qiáng)的吸收峰，這也是PEG構(gòu)造中C-O鍵的特征吸收峰，表明沉積的表面層是類(lèi)PEG構(gòu)造。1780.21cm處的吸收峰，說(shuō)明有C

• 工程產(chǎn)品冶金涂層氮?dú)獾入x子表面處理方法

  冶金涂層方法用于各種工程產(chǎn)品中，以提高它們的抗蝕性，耐磨性，疲勞強(qiáng)度和表面硬度。涂覆的方法有二種，一種是在工件表面上附著一層物質(zhì)；另一種是從工件表面向里形成一層不同物質(zhì)的擴(kuò)散層，該層具有可以測(cè)定的濃度梯度，而且和工件的近表面成為一體。這兩種涂層也可以同時(shí)存在。例如，目前對(duì)高載工件一般是先形成硬的氮化物擴(kuò)散層，用它來(lái)可靠地支持較硬的TiN附著層。許多這樣的冶金涂層正在用物相沉積(PVD)和化學(xué)氣相沉

• plasma等離子處理TEOS工藝沉積二氧化硅薄膜的光譜研究

  二氧化硅薄膜是一種性能優(yōu)良的介質(zhì)材料，它具有介電性能穩(wěn)定，介質(zhì)損耗小，耐潮性好，溫度系數(shù)好等優(yōu)點(diǎn)，具有較其穩(wěn)定的化學(xué)性和電絕緣性。因此，二氧化硅在集成電路工藝中的應(yīng)用很廣泛。? ? ? ? 正是由于二氧化硅薄膜在集成電路工藝中應(yīng)用的廣泛性，所以需要制備具有不同特性的二氧化硅薄膜，這就意味著要不斷研發(fā)出各種新型的薄膜沉積技術(shù)。近年來(lái)，常壓plasma等離子處理