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?plasma等離子體能量密度對(duì)H2氣氛下C2H6脫氫反應(yīng)的影響
?plasma等離子體能量密度為860 kJ/mol時(shí),H2添加量對(duì)C2H6脫氫反應(yīng)的影響:隨著H2濃度增加,C2H6轉(zhuǎn)化率,C2H2、C2H4和CH4收率均有所增加,這表明H2的加入有利于C2H6轉(zhuǎn)化及C2H2、C2H4和CH4生成。產(chǎn)生上述結(jié)果的可能原因是:一方面氫氣因其導(dǎo)熱性好,可大量傳遞熱量,在乙烷plasma等離子體中起稀釋氣體作用;另一方面氫氣的H-H鍵斷裂能為4.48eV,
等離子表面處理機(jī)在頭盔生產(chǎn)中的功能是什么
自2020年起,在全國(guó)開展"一盔一帶"安全守護(hù)行動(dòng),到現(xiàn)在為止,適當(dāng)和標(biāo)準(zhǔn)地在電瓶車上戴頭盔已成為提高城市公交安全防范意識(shí)的一個(gè)重要方面。雖然近幾年來頭盔生產(chǎn)加工的科技含量不高,但也呈現(xiàn)出智能化系統(tǒng)、高抗撕裂、高韌性、輕質(zhì)、爆表等發(fā)展趨勢(shì)。等離子表面處理機(jī)的表面處理技術(shù)在頭盔生產(chǎn)制造中有什么作用?下面小編就和大家互相探討一下。? ? ? ?制作頭盔的過程包括
等離子處理器也屬于干洗法,與傳統(tǒng)的濕法清洗器相比,電漿處理器具備工藝簡(jiǎn)單、操作簡(jiǎn)單、可控性高、精度高等特點(diǎn),能一次清理表層不會(huì)有殘留物,反觀濕法清理一次清理不干凈還會(huì)有殘留物,如果使用大量的溶劑,對(duì)環(huán)境和人體都會(huì)有害。電漿清洗器在使用流程中,有兩種清理流程:化學(xué)變化和物理反應(yīng)。電漿清理性能好,清理快,去除氧化物,**物和物體表層活化效果好,而且在使用流程中不會(huì)產(chǎn)生對(duì)人體和環(huán)境有害的氣體,是一種真正
plasma設(shè)備表面聚合同樣是非常普遍的反應(yīng)其一
沉積層的存在有利于提高材料表面的黏結(jié)能力。在plasma設(shè)備對(duì)難粘塑料進(jìn)行處理時(shí),往往伴隨聚合、蝕刻、活化等形式會(huì)同時(shí)出現(xiàn)。? ? ? ?當(dāng)材料表面有很高的光潔度要求時(shí),要通過表面活化進(jìn)行鍍膜,沉積,粘接等不至于破壞材料表面光潔度時(shí),采用plasma設(shè)備進(jìn)行活化。經(jīng)等離子活化后的材料表面水滴浸潤(rùn)效果顯著強(qiáng)于其它解決的方法。我們用plasma設(shè)備來做手機(jī)屏的清
公司名: 深圳子柒科技有限公司
聯(lián)系人: 熊生
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手 機(jī): 13714491283
微 信: 13714491283
地 址: 廣東深圳寶安區(qū)華宏工業(yè)園A棟
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網(wǎng) 址: ziqiplasma.b2b168.com
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