半導體制造及**封裝持續(xù)升溫

時間：2025-03-10作者：鵬城半導體技術(shù)（深圳）有限公司瀏覽：210

鵬城半導體技術(shù)（深圳）有限公司專注于PVD鍍膜設備,化學氣相沉積,金剛石涂層等

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• 重磅-鵬城半導體子公司鵬城微納獲3項計算機軟件著作權(quán)登記證書！

  近日，經(jīng)*人民共和國國家**審核，根據(jù)《zhrnghg計算機軟件保護條例》和《計算機軟件著作權(quán)登記辦法》的規(guī)定，“鵬城半導體技術(shù)（深圳）有限公司-全資子公司鵬城微納技術(shù)（沈陽）有限公司”獲3項《zhrnghg國家**計算機軟件著作權(quán)登記證書》，分別是：《多功能磁控濺射系統(tǒng)軟件V1.0》、《高真空熱蒸發(fā)薄膜沉積系統(tǒng)軟件V1.0》、《立式多功能熱絲CVD沉積系統(tǒng)軟件V1.0》。從頒證之日起，該3

• CITE2023 |鵬城半導體攜熱絲CVD金剛石等全系列方案亮相，備受矚目

  2023年4月9日，為期三天的*十一屆中國電子信息博覽會(英文簡稱：CITE2023)在深圳福田會展中心圓滿落幕。? ? ? ? ? ? ??左一（黑龍江副省長-王嵐女士）左二（鵬城半導體 董事 吳向方教授）本屆展會上鵬城半導體攜帶多功能磁控濺射、熱絲CVD金剛石、分子束外延系統(tǒng)MBE等多個解決方案亮相，現(xiàn)場人潮涌動，

• 化學氣相沉積設備（CVD）-小型管式LPCVD設備

  LPECVD是在低壓高溫的條件下，通過化學反應氣相外延的方法在襯底上沉積各種功能薄膜（主要是Si3N4、SiO2及Poly硅薄膜）。可用于科學研究、實踐教學、小型器件制造。小型管式LPCVD設備設備結(jié)構(gòu)及特點1、小型化，方便實驗室操作和使用，大幅降低實驗成本兩種基片尺寸2英寸或4英寸；每次裝片1～3片?；胖梅绞剑号渲萌N基片托架，豎直、水平臥式、帶傾角?；螤铑愋停翰灰?guī)則形狀的散片、φ2～4

• PVD真空鍍膜設備行業(yè)分析

  一、PVD真空鍍膜設備市場概況高真空電子束蒸鍍機-鵬城半導體2024年，**PVD真空鍍膜設備行業(yè)的總規(guī)模約為22億美元，而且預計到2024年，這一數(shù)字將會翻倍，達到47億美元。PVD真空鍍膜技術(shù)由非金屬物質(zhì)以真空溫度和帶電離子碰撞技術(shù)，形成厚膜，具有聚合度高、粘著力強、透明度高及耐腐蝕性好等優(yōu)點。PVD真空鍍膜設備可廣泛應用于電子、醫(yī)療、汽車、航空航天、航空航空電子等領域，以及金屬表面處理、無損