燃料電池儲(chǔ)氫系統(tǒng)氦質(zhì)譜檢漏法

時(shí)間：2023-04-12作者：伯東企業(yè)（上海）有限公司瀏覽：117

伯東企業(yè)（上海）有限公司專注于pfeiffer,氦質(zhì)譜檢漏儀,inTEST等

• 詞條

  詞條說明

• 美國(guó) KRi 考夫曼離子源 KDC 40 熱蒸鍍機(jī)應(yīng)用

  上海伯東某客戶在熱蒸發(fā)鍍膜機(jī)中配置美國(guó)?KRi 考夫曼離子源?KDC 40, 進(jìn)行鍍膜前基片預(yù)清潔 Pre-clean 和輔助鍍膜 IBAD 工藝, 通過同時(shí)的或連續(xù)的離子轟擊表面使原子(分子)沉積在襯底上形成薄膜, 提高沉積薄膜附著力, 純度, 應(yīng)力, 工藝效率等.離子源鍍膜前基片預(yù)清潔 Pre-clean 和輔助鍍膜 IBAD考夫曼離子源 KDC 40 到基片距離控制在 3

• 氦質(zhì)譜檢漏儀中壓開關(guān)柜檢漏

  氦質(zhì)譜檢漏儀中壓開關(guān)柜檢漏應(yīng)用于電力行業(yè)的中壓開關(guān)柜, 廣泛使用在發(fā)電廠, 變電站, 地區(qū)電網(wǎng)和輸電站中. 另外也適用于船舶, 高鐵等. 中壓開關(guān)柜是一種金屬封閉開關(guān)設(shè)備, 它對(duì)中壓開關(guān)以外的其他設(shè)備, 起到很好的絕緣性能, 避免電弧燒穿電力設(shè)備, **電力使用上的安全, 中壓開關(guān)柜內(nèi)部通過吸和開關(guān)控制電路.開關(guān)吸合器需要檢漏中壓開關(guān)柜內(nèi)部通過吸和開關(guān)控制電路, 吸合器內(nèi)部真空環(huán)境, 如果有漏,

• 分子泵組應(yīng)用于紅外原位分析平臺(tái)

  Pfeiffer?分子泵組應(yīng)用于紅外原位分析平臺(tái)紅外原位瞬態(tài)反應(yīng)過程分析實(shí)驗(yàn)平臺(tái)是與世界實(shí)驗(yàn)室同步水平研究的變溫變壓綜合實(shí)驗(yàn)設(shè)備, 由原位吸附高真空系統(tǒng), 低溫系統(tǒng), 氣液物料, 探針凈化控制系統(tǒng)和壓力突變等部件組成, 可用于開展樣品的熱脫附, 熱解, 探針分子飽和吸附和探針分子脈沖微吸附等復(fù)雜反應(yīng)過程研究.紅外原位分析平臺(tái)的主要特點(diǎn)是對(duì)固體材料進(jìn)行嚴(yán)格的高真空和高溫預(yù)處理, 可在高真空

• 分子泵組應(yīng)用于脈沖激光沉積系統(tǒng) PLD

  渦輪分子泵組應(yīng)用于脈沖激光沉積系統(tǒng)?PLD脈沖激光沉積系統(tǒng) PLD 可用來制備金屬和各種物質(zhì)薄膜, 甚至還用來制備一些難以合成的材料膜. 為了提高 PLD 系統(tǒng)的真空度和加快抽空時(shí)間, 經(jīng)過伯東選用分子泵+分子泵組串聯(lián)組合的形式來提高系統(tǒng)的真空度. 快達(dá)到其使用要求.渦輪分子泵組應(yīng)用于脈沖激光沉積系統(tǒng) PLD 客戶案例一: 上海伯東某客戶選用美國(guó)相干 Coherent 公司出產(chǎn)的 COM