詞條
詞條說(shuō)明
在激光的生產(chǎn)和使用過(guò)程中,不可避免的會(huì)涉及到光束質(zhì)量的檢測(cè)和表征,M2和BPP是表達(dá)深圳維爾克斯專(zhuān)業(yè)代理的激光光束質(zhì)量的兩個(gè)最常用的物理量。M2和BPP是基于相同的物理概念導(dǎo)出,所以他們兩者之間可以相互換算。光束質(zhì)量之所以重要是因?yàn)樗桥袛嗉す馄骱脡暮湍芊襁M(jìn)行激光精密加工的一個(gè)關(guān)鍵物理量,對(duì)于很多種單模輸出的激光器來(lái)說(shuō),高品質(zhì)的激光器通常都具有很高的光束質(zhì)量,對(duì)應(yīng)很小的M2,例如1.05或1.1。
在激光加工領(lǐng)域中,普遍需要得到能量均勻分布的正方形的勻化光斑。針對(duì)這一類(lèi)激光勻化需求,我司推出過(guò)雙微透鏡陣列的勻化方案。該方案使用的是兩片子單元為正方形的微透鏡陣列,該方案中的光路調(diào)試過(guò)程中,兩片微透鏡陣列的子單元要求對(duì)準(zhǔn),對(duì)調(diào)試的精度要求稍微偏高?,F(xiàn)我司推出使用兩片柱面微透鏡得到正方形勻化光斑的方案,降低了對(duì)調(diào)試的精度要求。本文針對(duì)后者勻化方案作了簡(jiǎn)要介紹。常見(jiàn)的雙微透鏡勻化光路,如下圖所示:激
芬蘭SPECIM的V10E應(yīng)用在納米級(jí)高光譜成像觀察細(xì)胞活動(dòng)
納米技術(shù)是一個(gè)快速增長(zhǎng)的研發(fā)領(lǐng)域。這種技術(shù)增長(zhǎng)催生了對(duì)更強(qiáng)大的工具和設(shè)備的需求,特別是在成像和圖像分析方面。研究人員需要能夠快速輕松地對(duì)天然狀態(tài)下的目標(biāo)的納米結(jié)構(gòu)進(jìn)行成像、表征和繪圖,而無(wú)需染色和相關(guān)樣品制備。CytoViva(一家顯微鏡成像產(chǎn)品制造商)通過(guò)將Specim的世界級(jí)光譜儀與其專(zhuān)利的增強(qiáng)暗場(chǎng)(EDF)顯微鏡光學(xué)元件和定制的高光譜圖像分析軟件相結(jié)合,解決了這一需求。高光譜成像是如何在納米
工程散射片的強(qiáng)度均勻照明和目標(biāo)面均勻照明
根據(jù)操作條件和應(yīng)用要求,RPC Photonics的工程散射片可以將激光光束散射成特定形狀的光斑,具體包括強(qiáng)度均勻照明、工程散射片均勻照明和工程擴(kuò)散片均勻光斑。在本文中,我們討論了定義光分布的一些典型方法以及兩種常見(jiàn)的照明條件,即角度空間上的強(qiáng)度分布和工作面上輻照度。1.強(qiáng)度Intensity,或者說(shuō),輻射強(qiáng)度定義為散射片向給定方向發(fā)射的每單位立體角功率??梢韵胂筇綔y(cè)器沿著以散射片為中心的圓弧移動(dòng)
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