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詞條說明
離子-uv光催化一體化除臭設(shè)備 高能離子光解除臭設(shè)備
一、技術(shù)原理: 1)惡臭的收集 市政污水工程中,在污水的輸送、處理等環(huán)節(jié),污水表面將散發(fā)大量惡臭氣體,為防止惡臭氣體的無組織散發(fā),應(yīng)對惡臭氣體散發(fā)點進行密閉,密閉設(shè)施可采用加蓋、塔建收集倉等技術(shù)措施,密閉后通過廢氣收集風(fēng)管對密閉空間內(nèi)的氣體進行收集。 2)化學(xué)原理 活性氧技術(shù)利用高頻送加脈沖射電中的特殊脈沖頻率;射電方式(活性氧發(fā)射電極每毫秒鐘發(fā)射上千億個高能離子),產(chǎn)生高密度的高能活性氧(O2
工業(yè)低溫等離子除臭設(shè)備 工業(yè)廢氣凈化器 橡塑廠環(huán)保設(shè)備
工業(yè)低溫等離子**廢氣處理設(shè)備工作原理: 當(dāng)廢氣進入等離子光解一體機凈化設(shè)備內(nèi)時,先經(jīng)過等離子體化學(xué)反應(yīng)過程,即電子首先從電場獲得能量,通過激發(fā)或電離將能量轉(zhuǎn)移到分子或原子中去,獲得能量的分子或原子被激發(fā),同時有部分分子被電離, 從而成為活性基團;之后這些活性基團與分子或原子、活性基團與活性基團之間相互碰撞后生成穩(wěn)定產(chǎn)物和熱。(在外加電場的作用下,介質(zhì)放電產(chǎn)生的大量攜能電子轟擊污染物分子,使其電離
一、概述低溫等離子除臭+UV光解一體機分為紫外線光解和等離子分解兩個區(qū),惡臭氣體先經(jīng)等離子分解區(qū)再到UV紫外線光解區(qū),經(jīng)多級凈化后達標排出。UV紫外線光解區(qū):利用特制的高能高臭氧UV紫外線光束照射惡臭氣體,改變惡臭氣體,如、**胺、、甲硫氫、、四硫醚、、和苯乙烯、硫化物H2S、VOC類、苯、甲苯、的分子鏈結(jié)構(gòu),使**或無機高分子惡臭化合物分子鏈,在高能紫外線下,降解轉(zhuǎn)變成低分子化合物,如CO2、H
惡臭氣體光解凈化設(shè)備 除惡臭:能去除揮發(fā)性**物(VOC)、無機物、硫化氫、氨氣、硫醇類等主要污染物,以及各種惡臭味,脫臭效率高可達99%以上,脫臭效果大大**過國家1993年頒布的惡臭污染物排放標準(GB14554-93)和1996年頒布的《大氣污染物綜合排放標準》(GB16297-1996)。 惡臭氣體利用排風(fēng)設(shè)備輸入到本凈化設(shè)備后,凈化設(shè)備運用高能UV紫外線光束及臭氧對惡臭氣體進行協(xié)同分解氧化
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