HVA 真空閥門 11000 用在 OLED 鍍膜機(jī)

時(shí)間：2024-01-11作者：伯東企業(yè)（上海）有限公司瀏覽：64

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• 詞條

  詞條說明

• KRI 霍爾離子源應(yīng)用于黑膜鍍制

  ? ?? ? ?黑膜鍍制,?是指將入射到材料表面的光線,?包括紫外光、可見光、近紅外光以及中遠(yuǎn)紅外波段的光,?幾乎全部吸收而基本沒有反射的表面處理技術(shù).?高的吸收率使黑膜有著廣闊的應(yīng)用前景.?如可在精密光學(xué)儀器和光學(xué)零件、醫(yī)療儀器、航空航天、外觀裝飾品等產(chǎn)品上得到廣泛使用,?可大幅度提高產(chǎn)

• HVA 真空閥門應(yīng)用于亞洲*大的粒子系統(tǒng)

  因產(chǎn)品配置不同，價(jià)格貨期需要電議，圖片僅供參考，一切以實(shí)際成交合同為準(zhǔn)。美國 HVA 真空閥門應(yīng)用于亞洲大的粒子系統(tǒng)上海伯東代理的美國 HVA 真空閥門應(yīng)用于中國研制的亞洲大的粒子系統(tǒng) ( 100MV ),當(dāng)前世界上大的粒子系統(tǒng)為美國費(fèi)密國立實(shí)驗(yàn)室的一臺質(zhì)子同步 ( 200MV )上海伯東是美國 HVA 真空閥門在中國境內(nèi)的代理商, 負(fù)責(zé)HVA valve 真空閥門在中國地區(qū)的銷售和相關(guān)

• HVA 真空閥門 11000 用在 OLED 鍍膜機(jī)

  國內(nèi)某?OLED?鍍膜機(jī)廠家配置伯東美國?HVA?真空閥門?11000?系列，尺寸以?4”, 6”, 8”閥門口徑為主的標(biāo)準(zhǔn)不銹鋼氣動(dòng)高真空閘閥,?HVA?不銹鋼真空閘閥?11000?系列標(biāo)準(zhǔn)技術(shù)規(guī)格:??閥門材質(zhì):?-?閥門主體?304&

• KRI 考夫曼射頻離子源 RFICP220濺射沉積 ZrAlN薄膜

  合金化是提高過渡族金屬氮化物薄膜硬度及抗磨損、耐腐蝕性能的有效方法。Al是常用合金化元素，能提高薄膜的硬度和抗高溫氧化性能。?北京某大學(xué)實(shí)驗(yàn)室在對硬韌 ?ZrAlN 薄膜及薄膜力學(xué)性能研究中, 采用伯東?KRI?考夫曼射頻離子源?RFCIP220? 輔助磁控濺射沉積的方法在鈦合金和單晶 Si 上沉積不同 Al 含量的ZrAlN 薄膜.&n