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等離子處理機活化改性,提高表面能


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  • 詞條

    詞條說明

  • 大氣常壓與真空等離子體清洗機設(shè)備區(qū)別

    大氣常壓等離子清洗機又稱常壓射流等離子處理機,即在普通大氣的環(huán)境下進行等離子清洗。大氣等離子清洗機由等離子發(fā)生器、氣體輸送管及等離子處理工作站等部分組成。等離子發(fā)生器產(chǎn)生高壓高頻能量在噴頭鋼管中被激活和被控制的輝光放電中產(chǎn)生了低溫等離子體,借助壓縮空氣將等離子體噴向工件表面,當(dāng)?shù)入x子體與被處理物體表面相遇時,產(chǎn)生了化學(xué)作用和物理變化,表面得到了清潔,去除了碳化氫類污物,如油脂、輔助添加劑等,根據(jù)材

  • 等離子清洗機在聚合物領(lǐng)域的應(yīng)用

    等離子清洗機可實現(xiàn)材料表面清潔、活化、材料的表面,提高其結(jié)合能力或賦予全新的表面性能。等離子清洗機具有提高材料表面親水性或疏水性、減少表面摩擦等作用。等離子清洗機能處理多種材料,可以清潔能清除看不見的油膜、微小銹斑以及其他因使用者與戶外接觸等原因而在表面形成的此類污物。等離子體清洗機的表面處理可以增加被處理材料的表面粗糙度,從而提高材料的印染性能。經(jīng)過等離子體處理后的聚合物材料,可以改變表面濕度,

  • 等離子清洗機,去除Wafer晶圓光刻膠

    等離子清洗機去除Wafer晶圓表面光刻膠,等離子清洗機用于光刻膠的去除工藝中,在等離子體反應(yīng)系統(tǒng)中通入少量的氧氣,在強電場作用下,使氧氣產(chǎn)生等離子體,迅速使光刻膠氧化成為可揮發(fā)性氣體狀態(tài)物質(zhì)被抽走。等離子清洗機的去膠工藝中具有操作方便、表面干凈、無劃傷、有利于確保產(chǎn)品的質(zhì)量等優(yōu)點,而且等離子清洗機不用酸、堿及有機溶劑等。等離子清洗機Plasma Cleaner又被稱為等離子蝕刻機、等離子去膠機、等

  • 等離子清洗機去除微觀污染物

    等離子清洗機應(yīng)用于材料科學(xué)、高分子科學(xué)、生物醫(yī)藥材料學(xué)、微流體研究、微電子機械系統(tǒng)研究、光學(xué)、顯微術(shù)、牙科醫(yī)療等領(lǐng)域中的污染物清除、表面活化、粘合前處理、表面化學(xué)改性、聚合物移植或表面涂覆等方面。等離子清洗機能處理塑料、生化材料、PDMS、玻璃或金屬半導(dǎo)體、陶瓷、復(fù)合材料、高分子聚合物等材料,并對所處理的材料表面帶來表面潔凈、殺菌、提高濕潤性轉(zhuǎn)變、表面性質(zhì)改變、提高結(jié)合力等處理效果。等離子清洗機有

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