詞條
詞條說明
“剪切”效應(yīng)水分子裂解產(chǎn)生的活性自由基的壽命比較長(zhǎng),它進(jìn)入管道后將產(chǎn)生還原作用,可以使生成的積垢剝落下來。而且因超聲波輻射在垢層和管壁上,加熱管上的吸收和傳播速度不同,產(chǎn)生速度差,形成垢層與管壁界面上的相對(duì)剪切力,從而導(dǎo)致垢層產(chǎn)生疲勞而松脫。“抑制”效應(yīng)通過超聲波的作用,改變了液體主體的物理化學(xué)性質(zhì),縮短了成垢物質(zhì)的成核誘導(dǎo)期, ** 了微小晶核的生成。新生成的這些微小晶核,由于體積小、質(zhì)量輕、表
水處理設(shè)備的分類水處理設(shè)備按分別主要可分為污水處理設(shè)備、原水處理設(shè)備、凈水設(shè)備、過濾設(shè)備、**純水設(shè)備這幾大類。像以下的水處理設(shè)備:全自動(dòng)加藥設(shè)備,全自動(dòng)軟水器,機(jī)械過濾器、反滲透設(shè)備、純水設(shè)備、**純水設(shè)備、中空纖維超濾裝置、離子交換、混床、拋光混床、EDI電除鹽系統(tǒng)裝置、工廠企業(yè)飲用水設(shè)備、袋式過濾器、臭氧殺菌消毒裝置、**綜合水處理器,物化處理機(jī)組,物化全程綜合水處理器、永磁處理器,旋流除砂器,
技術(shù)標(biāo)準(zhǔn)符合 Q/HAZHK0001-2017 標(biāo)準(zhǔn)防 ( 除 ) 垢工藝流程硬件和軟件系統(tǒng)HI-TOO 超聲波防、除垢硬件系統(tǒng)設(shè)計(jì)方案:電源單元、主控單元、電/機(jī)轉(zhuǎn)換單元、參數(shù)調(diào)測(cè)單元、匹配單元、顯示單元、功放單元、遙控單元。HI-TOO 超聲波防、除垢軟件系統(tǒng)設(shè)計(jì)方案:主控軟件、參數(shù)調(diào)測(cè)控制軟件、電/機(jī)轉(zhuǎn)換控制軟件
“空化”效應(yīng)超聲波的輻射能對(duì)被處理液體介質(zhì)直接產(chǎn)生大量的空穴和氣泡,也就是把液體拉裂而形成無數(shù)較微小的局部空穴,當(dāng)這些空穴和氣泡破裂或互相擠壓時(shí),產(chǎn)生一定范圍的強(qiáng)大的壓力峰,這一強(qiáng)壓力峰能使成垢物質(zhì)粉碎懸浮于液體介質(zhì)中,并使已生成的垢層破碎使其易于脫落。
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