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等離子清洗機在半導體領域的應用


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    等離子清洗機去除Wafer晶圓表面光刻膠,等離子清洗機用于光刻膠的去除工藝中,在等離子體反應系統(tǒng)中通入少量的氧氣,在強電場作用下,使氧氣產生等離子體,迅速使光刻膠氧化成為可揮發(fā)性氣體狀態(tài)物質被抽走。等離子清洗機的去膠工藝中具有操作方便、表面干凈、無劃傷、有利于確保產品的質量等優(yōu)點,而且等離子清洗機不用酸、堿及有機溶劑等。等離子清洗機Plasma Cleaner又被稱為等離子蝕刻機、等離子去膠機、等

  • 水處理設備之預處理系統(tǒng)介紹

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    滾筒等離子表面處理機適合粉末、顆粒狀產品;石墨烯粉、碳粉、高分子粉狀材料;動態(tài)旋轉,處理均勻,無死角,確保產品在腔內無序多方位處理;等離子清洗機用于粉狀粉末,顆粒狀材料清洗、刻蝕、活化、接枝處理,增加表面張力,增強親水性能等離子清洗機有幾種稱謂,英文叫(Plasma Cleaner)又稱等離子體清洗機,等離子清洗器,等離子清洗儀,等離子刻蝕機,等離子表面處理機,電漿清洗機,plasma清洗機,等離

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